鋁靶、銅靶用于導電層薄膜。在半導體芯片制造的金屬化工藝過程中，氧化鎢薄膜是一種被廣泛研究的功能材料。芯片行業(yè)擁有一條超長的產(chǎn)業(yè)鏈。其整體可分為設計、制造、封裝、四大環(huán)節(jié)。除了在設計領域，華為海思擁有一定的打破能力，其他三個環(huán)節(jié)，尤其是在制造環(huán)節(jié)，國內(nèi)廠商的能力仍有較大的提升空間。盡管全世界各大廠生產(chǎn)的材料幾乎都能99.99%的純度，但卻唯有日本廠商的材料能將純度達到99.999%。半導體材料主要分為晶圓制造材料和封裝材料，化學品、電子氣體、P拋光材料、以及靶材等；芯片封裝材料包括封裝基板（39%）、引線框架、樹脂、鍵合絲、錫球、以及電鍍液等。磷化銦靶材(InP)，鉛靶材(PbAs)，銦靶材(InAs)。噴涂靶材。       新型的濺鍍設備幾乎都使用力度強磁鐵將電子成螺旋狀運動以加速靶材周圍的氬氣離子化，造成靶與氬氣離子間的撞擊機率增加，提高濺鍍速率。一般金屬鍍膜大都采用直流濺鍍，而不導電的陶磁材料則使用RF交流濺鍍，基本的原理是在真空中利用輝光放電（glow discharge）將氬氣（Ar）離子撞擊靶材（target）表面，電漿中的陽離子會加速沖向作為被濺鍍材的負電極表面，這個沖擊將使靶材的物質(zhì)飛出而沉積。       陽極消失：靶中毒時，接地的真空室壁上也沉積了絕緣膜，到達陽極的電子無法進入陽極，形成陽極消失現(xiàn)象。靶中毒的物理解釋（1）一般情況下，金屬化合物的二次電子發(fā)射系數(shù)比金屬的高，靶中毒后，靶材表面都是金屬化合物，在受到離子轟擊之后，釋放的二次電子數(shù)量增加，提高了空間的導通能力磁控濺射一般分為二種：直流濺射和射頻濺射，其中直流濺射設備原理簡單，在濺射金屬時，其速率也快。而射頻濺射的使用范圍更為廣泛。近年來，受益于國家從戰(zhàn)略高度持續(xù)持電子材料行業(yè)的發(fā)展及應用推廣，我國國內(nèi)開始出現(xiàn)不少專業(yè)從事高純?yōu)R射靶材研發(fā)和生產(chǎn)的企業(yè)，并成功開發(fā)出一批能適應高等應用領域的濺射靶材，為高純?yōu)R射靶材大規(guī)模產(chǎn)業(yè)化提供了良好的研發(fā)基礎和市場化條件。       太陽能電池用鋁靶的金屬純度略低，99.995%（4N5）以上。高純貨品靶材被譽為半導體芯片材料的強者，半導體產(chǎn)業(yè)對濺射靶材和濺射薄膜的品質(zhì)要求非常高，隨著更大尺寸的硅晶圓片制造出來，相應地要求濺射靶材也朝著大尺寸、高純度的方向發(fā)展，同時也對濺射靶材的晶粒晶向控制提出了更高的要求。高純貨品靶材在電子信息產(chǎn)業(yè)中的應用廣泛，因貨品有良好的化學穩(wěn)定性，高電導率、熱導率，以及特有的電學、磁學、光學等性能。什么是靶中毒現(xiàn)象(1)正離子堆積：靶中毒時，靶面形成一層絕緣膜，正離子到達陰極靶面時由于絕緣層的阻擋，不能直接進入陰極靶面，而是堆積在靶面上，容易產(chǎn)生冷場致弧光放電---打弧，使陰極濺射無法進行下去。       而且附著力很強，清洗環(huán)節(jié)很難清除掉，這就造成膜層與基片的結(jié)合力大大降低，從而導致脫膜。水質(zhì)的好壞對于鍍膜是至關重要的。去離子水純度應控制在電阻率10M歐姆以上。若低于該值，則應對陰陽離子交換樹脂進行更新，否則，會因水質(zhì)不純導致原片清洗不凈而脫膜。連接水處理設備和清洗機水箱的管道應定期吹掃清洗。因為管道中若殘留不流動的水久了，會滋生細菌、藻類，在使用時會帶到水箱里，使清洗水本身旅游活動過關，造成鍍膜不牢。清洗刷使用一段后，上面會殘留一些污物。靶材是高速荷能粒子轟擊的目標材料，故靶材也叫濺射靶材（純度：99.9%-99.999%），具有較高的技術壁壘。銀是目前使用廣泛的導電層薄膜材料之一。和超大規(guī)模集成電路芯片的制造對濺射靶材金屬純度的要求相比。       WSTS（大部分國家半導體貿(mào)易統(tǒng)計籌備）數(shù)據(jù)顯示，濺射靶材主要應用在平板顯示、記錄媒體、光伏電池、半導體等領域。其中，在濺射靶材應用領域中，半導體芯片對濺射靶材的金屬材料純度、內(nèi)部微觀結(jié)構等方面都設定了極其苛刻的標準，需要掌握生產(chǎn)過程中的關鍵技術并經(jīng)過長期實踐才能制成符合工藝要求的產(chǎn)品。因此，半導體芯片對濺射靶材的要求是較高的，價格也較為昂貴。靶材產(chǎn)業(yè)鏈：濺射靶材產(chǎn)業(yè)鏈基本呈金字塔型分布。產(chǎn)業(yè)鏈主要包括金屬提純、靶材制造、濺射鍍膜和終端應用等環(huán)節(jié)。磁控膜玻璃出現(xiàn)脫膜現(xiàn)象幾大原因：原片存放因素，玻璃表面越新鮮，表面活性越大，與膜層的結(jié)合力越強，反之則差。使用存放期過長的玻璃，由于玻璃表面霉變和附著的污物會大量增加。