中國芯片究竟在哪個環(huán)節(jié)被美國“卡”了脖子？數(shù)據(jù)表明，2019年，我國芯片自給率僅為30%左右。根據(jù)有關(guān)部門的發(fā)展規(guī)劃，2025年，芯片自給率提升到70%，這差不多是當下美國等芯片大國的平均水平。作為一個龐大且復(fù)雜的行業(yè)，芯片行業(yè)擁有一條超長的產(chǎn)業(yè)鏈。其整體可分為設(shè)計、制造、封裝、四大環(huán)節(jié)。除了在設(shè)計領(lǐng)域，華為海思擁有一定的打破能力，其他三個環(huán)節(jié)，尤其是在制造環(huán)節(jié)，國內(nèi)廠商的能力仍有較大的提升空間。生產(chǎn)半導(dǎo)體芯片需要19種左右的必須的材料，缺一不可，且大多數(shù)材料具備非常高的技術(shù)壁壘。我國從核心環(huán)節(jié)來看，經(jīng)歷了急速擴張的芯片設(shè)計企業(yè)或先受到重創(chuàng)，尤其是小規(guī)模初創(chuàng)，而他們正代表了中國芯片企業(yè)的絕大多數(shù)。半導(dǎo)體芯片行業(yè)是金屬濺射靶材的主要應(yīng)用領(lǐng)域之一。       由于HJT電池的工藝要求較高，因此ITO濺射靶材的比例和純度非常重要。什么是高純?yōu)R射靶材？就是利用各種高純單質(zhì)貨品及新型化合物制得的功能薄膜為（簡單理解就是純度更高），主要用于對材料純度、穩(wěn)定性要求更高的領(lǐng)域，像集成電路、平板顯示器、太陽能電池、記錄媒體、智能玻璃等行業(yè)。在濺射靶材應(yīng)用領(lǐng)域中，半導(dǎo)體芯片對濺射靶材的要求是比較高的，要求靶材純度很高，一般在5N（99.999%）以上。日本在電子行業(yè)的上游材料領(lǐng)域占據(jù)了優(yōu)勢，在硅晶圓材料、光罩、靶材等重要的細分子領(lǐng)域的市場份額都超過50%。高純靶材用量較大的行業(yè)主要有半導(dǎo)體集成電路、平板顯示器、太陽能電池、磁記錄介質(zhì)、光學(xué)器件等。AZO靶材是其中一種制造高科技節(jié)能玻璃鍍膜材料。薄膜太陽能電池比傳統(tǒng)的晶體硅太陽能電池具有更加廣闊的市場空間。大部分國家光伏累計裝機容量不斷增長,給太陽能電池用濺射靶材市場帶來了較大的成長空間。高純?yōu)R射靶材是典型的技術(shù)密集型產(chǎn)業(yè),產(chǎn)品技術(shù)含量高,研發(fā)生產(chǎn)設(shè)備專用性強。       主要用于五金裝飾的耐磨、耐腐蝕硬膜，LOW-E鍍膜玻璃，半導(dǎo)體電子加工尺寸:長度:4000MM厚度:6-10MM，直型、狗骨型，對于貨品靶材，若剩余下的高純殘靶若以普通廢料進行處理，將會是對稀貴材料的較大浪費；同時，靶材從原材料到加工成成品，成材率一般只有40%-80%，大量的余料和殘屑需要更新循環(huán)利用。對于貨品靶材，由于材料價格昂貴，迫切需要對加工過程的余料殘屑的提純再利用及對殘進行回收加工增值服務(wù)，有效增加材料利用效率和節(jié)約資源。對于貨品余料殘屑及殘的處理可為機械物理法回收和化學(xué)精煉提純回收。機械物理法可應(yīng)用于單質(zhì)金屬殘靶及加工廢料。通過機械切削對單質(zhì)殘表面進行處理，然后采用酸洗去除表面殘留雜質(zhì)的方法對殘祀回收再利用。       通過抽真空、封口可以進一步防止污染以及損壞靶材。具體地，緩沖塊優(yōu)選設(shè)置為泡沫塊，便于起到緩沖作用，防止靶材損壞。將ITO靶材沉積到PET基板上，就形成ITO導(dǎo)電薄膜；將ITO靶材沉積到玻璃基板上，就形成ITO導(dǎo)電玻璃基板。如果將大塊的ITO導(dǎo)電基板應(yīng)用于各種不同尺寸的電子產(chǎn)品上，對其切割是必要的一個過程，電子產(chǎn)品上所須得薄膜都需要精細加工,也即邊緣必須保持光滑不磨手、大小尺寸適中等,所以傳統(tǒng)的剪裁加工注定跟不上時代節(jié)奏步伐,這時的激光切割就顯得特別重要。電阻式觸摸屏。在液晶顯示器和觸摸屏領(lǐng)域，由于對顯示效果和傳感響應(yīng)很高的要求，ITO主要了現(xiàn)有液晶顯示器和觸摸屏的透明電極，特別是在觸摸屏領(lǐng)域。液晶顯示器主要使用ITO導(dǎo)電玻璃。液晶顯示器之所以能顯示特定的圖形，主要是將導(dǎo)電玻璃上的透明電極蝕刻制成特定形狀的電極。       靶材是一種具有高附加值的特種電子材料，是濺射薄膜材料的源極。已得到從未有過的發(fā)展，靶材市場規(guī)模日益膨脹。冷噴涂在濺射靶材制造方向優(yōu)勢顯著。冷噴涂靶材致密,幾乎沒有氣孔,濺射過程中不會有異常放電。者噴涂速度與前者相同，但溫度下降至1000℃，加之以空氣作為助燃劑，成本大幅下降?；旆蹤C和噴洗房內(nèi)的噴洗時的惰性氣體均采用氦氣，便于雜質(zhì)的控制。另外，在步驟S3中，清洗時采用無水乙醇或者純凈水，有效防止靶材表面加工后留存的雜質(zhì)。此外，在步驟S4中，密封好的靶材外面再用氣泡膜包裹后裝入運輸箱中，防止在運輸?shù)倪^程中進行碰撞損壞。進一步，進行真空包裝時，采用PE尼龍復(fù)合塑料袋進行包裝，在進行真空包裝放入PE尼龍復(fù)合塑料袋時。       會產(chǎn)生不同的殺傷應(yīng)。為了滿足更高的鍍膜要求，迫切需要一種新的技術(shù)制備出高質(zhì)量的鋁鈧旋轉(zhuǎn)靶材。采用可控氣氛冷噴涂制備鋁鈧旋轉(zhuǎn)靶材的方法，靶材的相對密度多97%，純度彡99.99%，氧含量200ppm，鈧元素的含量為0.14wt%，其余為銷元素。尤特新材主要致力于研發(fā)、生產(chǎn)和銷售ITO靶材及其它，公司內(nèi)設(shè)有研發(fā)中心和實驗室，生產(chǎn)的ITO旋轉(zhuǎn)靶材一直處于業(yè)內(nèi)****地位，產(chǎn)品廣泛應(yīng)用于TFT-LCD、OLED(農(nóng)業(yè)生產(chǎn)體系發(fā)光二極管)、觸摸屏、LED、薄膜太陽能電池、節(jié)能玻璃等領(lǐng)域。目前是國內(nèi)一家實現(xiàn)量產(chǎn)出貨TFT-LCD行業(yè)的ITO靶材供應(yīng)商。后隨著電子產(chǎn)業(yè)的發(fā)展，高技術(shù)材料逐漸向薄膜轉(zhuǎn)移，鍍膜期間隨之發(fā)展迅速。