長期以來，ITO靶材的主要市場份額都在國外靶材生產(chǎn)商手中，國內(nèi)只能在相對(duì)低端的行業(yè)取得一點(diǎn)機(jī)會(huì)。一、ITO靶材的主要：濺射靶、蒸鍍靶。1、蒸發(fā)靶材：主要應(yīng)用于LED芯片及光學(xué)鍍膜行業(yè)。芯片的下游企業(yè)就是國內(nèi)的三安光電、華燦光電等芯片企業(yè)（但目前這些企業(yè)也有向?yàn)R射鍍膜靶材轉(zhuǎn)換的趨勢），芯片生產(chǎn)好之后在經(jīng)過封裝，做成燈具后就可以工程施工了。至于光學(xué)鍍膜的下游企業(yè)就是一些眼鏡玻璃生產(chǎn)企業(yè)，特種玻璃鍍膜企業(yè)等(市場容量相對(duì)較?。?光學(xué)器件應(yīng)用范圍非常廣泛，主要包括智能手機(jī)、車載鏡頭、安防監(jiān)控設(shè)備、數(shù)碼相機(jī)、光碟機(jī)、投影機(jī)等，元器件及光學(xué)鏡頭。我國濺射靶材研發(fā)生產(chǎn)技術(shù)還存在一定差距，市場影響力相對(duì)有限，尤其在半導(dǎo)體芯片、平板顯示器、太陽能電池等領(lǐng)域，濺射靶材市場依然被美國、日本的濺射靶材生產(chǎn)廠商所控制或壟斷。隨著濺射靶材朝著更高純度、更大尺寸的方向發(fā)展。不斷進(jìn)行研發(fā)創(chuàng)新。靶材產(chǎn)品包括鋁及其合金靶材、鈦靶、銅靶、鉭靶等。尤特新材料（UVTM）是國家高新技術(shù)企業(yè)，公司成立于二00三年，專業(yè)從事信息、鍍膜、太陽能材料的科研與生產(chǎn)。公司從德國、日本、引進(jìn)先進(jìn)的生產(chǎn)、檢測設(shè)備和專業(yè)人才。目前，靶材的國產(chǎn)化進(jìn)程面臨著高等技術(shù)封鎖難題。且技術(shù)難以實(shí)現(xiàn)系統(tǒng)打破，過程還需要多個(gè)學(xué)科的知識(shí)和經(jīng)驗(yàn)的同時(shí)積累，產(chǎn)業(yè)需要協(xié)同發(fā)展。 農(nóng)業(yè)生產(chǎn)體系太陽能電池的光生電荷過程包括光子吸收、激子解離、電荷傳輸與電荷收集四個(gè)基本步驟。目前針對(duì)這一光電過程仍然缺少有效、直接的電學(xué)性能優(yōu)化手段。分子摻雜劑作為一種第三組分，其在體相異質(zhì)結(jié)中的分布，會(huì)直接影響摻雜效果并決定器件性能；不匹配的摻雜劑分布會(huì)導(dǎo)致?lián)诫s的“零效應(yīng)”和“負(fù)效應(yīng)”。然而，目前的研究并未明確分子摻雜劑在本體異質(zhì)結(jié)中的優(yōu)化分布，從而使得分子摻雜農(nóng)業(yè)生產(chǎn)體系光伏器件性能優(yōu)化缺少調(diào)控目標(biāo)與實(shí)現(xiàn)途徑。為解決這一關(guān)鍵科學(xué)問題，西安交通大學(xué)金屬材料強(qiáng)度國家重點(diǎn)實(shí)驗(yàn)室農(nóng)業(yè)生產(chǎn)體系光電子材料及界面課題組化繁為簡地設(shè)計(jì)制備了平面異質(zhì)結(jié)模型器件；從而準(zhǔn)確調(diào)控了摻雜劑在電子給體、電子受體及異質(zhì)結(jié)處的分布。借助超快光譜、瞬態(tài)光電壓及光電子能譜等分析手段?？蒲腥藛T進(jìn)一步發(fā)現(xiàn)異質(zhì)結(jié)摻雜具有促進(jìn)激子分離、延長載流子壽命并降低載流子傳輸復(fù)合的作用。 濺射（Sputteng）鍍膜技術(shù)利用離子源產(chǎn)生的離子，在高真空中經(jīng)過加速聚集，而形成高速度能的離子束流，轟擊固體表面，離子和固體表面原子發(fā)生動(dòng)能交換，使固體表面的原子離開固體并沉積在基底表面而形成薄膜材料。被轟擊的固體原料是用濺射法沉積薄膜的原材料，稱為濺射靶材。濺射靶材具有高純度、高密度、多組元、晶粒均勻等特點(diǎn)，一般由靶坯和背板組成。 靶材企業(yè)目前，大部分國家的靶材制造行業(yè)，特別是高純度的靶材市場，呈現(xiàn)寡頭壟斷格局，主要由幾家美日大企業(yè)把持著，如日本的三井礦業(yè)、日礦金屬、日本東曹、住友化學(xué)、日本愛發(fā)科，以及美國霍尼韋爾、普萊克斯等。根據(jù)有研新材數(shù)據(jù)估算，日礦金屬是大部分國家大的靶材供應(yīng)商，靶材銷售額約占大部分國家市場的30%，霍尼韋爾在并購JohnsonMattey、整合高純鋁、鈦等原材料生產(chǎn)廠后，占到大部分國家市約20%的份額，此外，東曹和普萊克斯分別占20%和10%。 陶瓷靶材分為化合物陶瓷靶材和氧化物靶材，產(chǎn)品包含氧化物、氟化物、氮化物、碳化物、硼化物、硫化物、硅化物、硒化物、碲化物、磷化物以及各類混合摻雜物，純度99.5%-99.999%，適合磁控濺射鍍、熱蒸鍍、電子束蒸鍍，產(chǎn)品廣泛應(yīng)用于各類半導(dǎo)體行業(yè)、太陽能光伏光熱行業(yè)、建筑、裝飾、汽車、平面顯示、LCD、LED、集成電路，元器件、磁記錄、裝飾、工具鍍膜、航空航天、科研等領(lǐng)域。不同的氮化物，可以獲得不同的鍍層顏色。其中，TiAlN是藍(lán)灰色涂層，硬度越HV3300，耐熱900℃?？捎糜诟咚偌庸?；GrN是銀灰色涂層，良好的潤滑性能，主要用于有色金屬加工。 所謂濺射，是制備薄膜材料的主要技術(shù)，也是PVD的一種。它通過在PVD設(shè)備中用離子對(duì)目標(biāo)物進(jìn)行轟擊，使得靶材中的金屬原子以一定能量逸出，從而在晶圓表面沉積，濺鍍形成金屬薄膜，其中被轟擊的固體是用濺射法沉積薄膜的原材料。金屬靶材:鎳靶、N、鈦靶、Ti、鋅靶、Zn、鉻靶、Cr、鎂靶、kg、鈮靶、№b、錫靶、Sn、鋁靶、A1、銦靶、I、鐵靶、Fe、鋯鋁靶、ZrAl、鈦鋁靶、TiΔl、鋯靶、Zr、鋁硅靶、AlSi、硅靶Sⅰ、銅靶Cu、鉭靶T、a、鍺靶、e、銀靶、Ag、鉆靶、Co、金靶、Au、釓靶、Gd、鑭靶、La、億靶、Y、鈰靶、Ce、鎢靶、w、不銹鋼靶、鎳鉻靶、NiCr、鉿靶、H、鉬靶、M、鐵鎳靶、FeNi、鎢靶、W等。