目前芯片生產(chǎn)所使用的主流導(dǎo)體互連工藝中同時存在鋁和銅兩種導(dǎo)線工藝，一般來說110nm晶圓技術(shù)節(jié)點以上使用鋁導(dǎo)線，110nm晶圓技術(shù)節(jié)點下使用銅導(dǎo)線（應(yīng)用在更小的納米制程中）。鈦是較為為常用的阻擋層薄膜材料之一，主要是半導(dǎo)體領(lǐng)域，對應(yīng)的事導(dǎo)電層薄膜是鋁；鉭在高等的超大規(guī)模集成電路芯片中是阻擋層薄膜材料之一（相應(yīng)的導(dǎo)電層薄膜為銅）；鎢鈦靶：半導(dǎo)體芯片門電路接觸層和阻擋層；鈦材料作為鋁導(dǎo)線的阻擋層的薄膜材料，鉭材料作為銅導(dǎo)線的阻擋層的薄膜材料被廣泛應(yīng)用，兩種阻擋層薄膜材料均為業(yè)界主流磁控濺射靶材。大尺寸電視及智能手機需求的增長，平板顯示器尺寸迅速加大，推動平板顯示器行業(yè)規(guī)模不斷加大，市場規(guī)模增速達(dá)到20%。商。       蒸發(fā)物質(zhì)的分子被電子碰撞電離后以離子沉積在固體表面，稱為離子鍍。這種技術(shù)是D.麥托克斯于13年提出的。離子鍍是真空蒸發(fā)與陰極濺射技術(shù)的結(jié)合。一種離子鍍系統(tǒng)如圖4[離子鍍系統(tǒng)示意圖],將基片臺作為陰極，外殼作陽極，充入惰性氣體（如氬）以產(chǎn)生輝光放電。從蒸發(fā)源蒸發(fā)的分子通過等離子區(qū)時發(fā)生電離。正離子被基片臺負(fù)電壓加速打到基片表面。未電離的中性原子（約占蒸發(fā)料的95％）也沉積在基片或真空室壁表面。電場對離化的蒸氣分子的加速作用（離子能量約幾百～幾千電子伏）和氬離子對基片的濺射清洗作用，使膜層附著強度大大提高。離子鍍工藝綜合了蒸發(fā)（高沉積速率）與濺射（良好的膜層附著力）工藝的特點，并有很好的繞射性，可為形狀復(fù)雜的工件鍍膜。 金屬鈮靶材。       在建筑玻璃方面的應(yīng)用：陽光控制膜、低輻射玻璃、防霧防露和自清潔玻璃等。在防護(hù)涂層中的應(yīng)用：飛機發(fā)動機的葉片、汽車鋼板、散熱片等。在硬質(zhì)涂層中的應(yīng)用：切削工具、模具和耐磨耐腐蝕零件等。在太陽能利用領(lǐng)域的應(yīng)用：太陽能集熱管、太陽能電池等。芯片制造設(shè)備，半導(dǎo)體材料對于芯片產(chǎn)業(yè)的重要性也是不言而喻。半導(dǎo)體材料可以分為晶圓材料和封裝材料,中國的半導(dǎo)體行業(yè)正處于成長關(guān)鍵期，材料和技術(shù)仍依賴***，受到國際市場影響，圍繞半導(dǎo)體行業(yè)的焦慮在持續(xù)蔓延。2018年大部分國家半導(dǎo)體規(guī)模增速達(dá)12.4%。特別是存儲器市場。增速高達(dá)61.49%。一方面，存儲芯片需求旺盛，價格大幅上漲，另一方面，物聯(lián)網(wǎng)、汽車電子、AI等新應(yīng)用拉動下游需求。       光伏電池對TCO鍍膜玻璃的性能要求：1.光譜透過率為了能夠充分地利用太陽光，TCO鍍膜玻璃一定要保持相對較高的透過率。目前，產(chǎn)量多的薄膜電池是雙結(jié)非晶硅電池，并且已經(jīng)開始向非晶/微晶復(fù)合電池。因此，非晶/微晶復(fù)合疊層能夠吸收利用更多的太陽光，提高轉(zhuǎn)換效率，即將成為薄膜電池的主流產(chǎn)品。2.導(dǎo)電性能TCO導(dǎo)電薄膜的導(dǎo)電原理是在原本導(dǎo)電能力很弱的本征半導(dǎo)體中摻入微量的其他元素，使半導(dǎo)體的導(dǎo)電性能發(fā)生顯著變化。這些微量元素被稱為雜質(zhì)，摻雜后的半導(dǎo)體稱為雜質(zhì)半導(dǎo)體。氧化銦錫（ITO）透明導(dǎo)電玻璃就是將錫元素?fù)饺氲窖趸熤校岣邔?dǎo)電率，它的導(dǎo)電性能在目前是比較好的，低電阻率達(dá)10-5Ωcm量級。3.霧度為了增加薄膜電池半導(dǎo)體層吸收光的能力。光伏用TCO玻璃需要提高對透射光的散射能力，霧度即為透明或半透明材料的內(nèi)部或表面由于光漫射造成的云霧狀或混濁的外觀。以漫射的光通量與透過材料的光通量之比的百分率表示。       特別是ITO靶材市場發(fā)展緩慢，致使中國銦大量出口，而ITO靶材則高度依賴***。近年來，由于智能手機、平板電腦等移動終端的流行，市場對ITO靶材的需求量大增，而ITO靶材主要原材料是稀有金屬銦，該領(lǐng)域?qū)︺煹南M量占到了大部分國家銦產(chǎn)量的75%左右。但I(xiàn)TO靶材技術(shù)一直無法取得打破，成為為日韓提供銦金屬原材料供應(yīng)國。為了打破技術(shù)和產(chǎn)能瓶頸，有效利用銦資源，近年中國企業(yè)加快了ITO靶材技術(shù)研發(fā)和引進(jìn)。上馬了多個高等ITO靶材國產(chǎn)化項目。然而，國內(nèi)濺射靶材主要應(yīng)用于中低端產(chǎn)品商，而高等靶材產(chǎn)品則從日韓***，本土靶材廠商約占國內(nèi)市場30%的份額。什么是高純?yōu)R射靶材？國內(nèi)靶材公司的發(fā)展趨勢如何？       金屬化：靶坯與背板在綁定之前，為增強靶材和靶材與焊料的金屬潤濕性能，需要進(jìn)行焊合面的預(yù)處理，使之表面鍍層過渡層。綁定：大部分靶材由于材料的物理或者化學(xué)性能受限，不可直接裝機鍍膜使用，需要采用金屬焊料將靶坯與背板相互焊合連接，并且表面有效粘結(jié)率需要達(dá)到大于95%的大面積焊合。整個過程需要在高溫和高壓下進(jìn)行。靶坯與背板綁定完成后，需要采用水浸式超聲波掃描儀進(jìn)行粘結(jié)層的檢測驗粘結(jié)面積是否達(dá)標(biāo)。機械加工：靶坯需要進(jìn)行準(zhǔn)確的機械成型加工，用于與靶坯復(fù)合使用的背板，由于承擔(dān)與鍍膜設(shè)備配合、承受高壓水冷等作用，需要具備非常高的尺寸精度與機械精度，加工難度較高，尤其是帶內(nèi)循環(huán)水路的背板，由于材質(zhì)的特殊性。水路的密閉焊接非常困難，需要用到特種焊接工藝。