主營(yíng):濺射靶材,鍍膜靶材,金屬靶材,旋轉(zhuǎn)靶材,平面靶材
所在地:
廣東 廣州
產(chǎn)品價(jià)格:
電議(大量采購(gòu)價(jià)格電議)
電議(大量采購(gòu)價(jià)格電議)
最小起訂:
1
物流運(yùn)費(fèi):
賣家承擔(dān)運(yùn)費(fèi)
發(fā)布時(shí)間:
2024-08-16
有效期至:
2025-02-16
產(chǎn)品詳細(xì)
尤特制備的AZO靶材,客供太陽(yáng)能光伏和low-e玻璃鍍膜用,AZO靶材能制備比例:98:2、99:1,化學(xué)式: AZO。 磁控濺射靶材廣泛應(yīng)用于用于建筑/汽車玻璃工業(yè)、薄膜太陽(yáng)能工業(yè)、平面顯示工業(yè)、裝飾/功能鍍膜工業(yè)。隨著國(guó)內(nèi)靶材行業(yè)研發(fā)的投入和發(fā)展,國(guó)內(nèi)已有靶材供應(yīng)商、制造商的生產(chǎn)出來的靶材達(dá)到了進(jìn)口的水平。在廣州,尤特新材料成為全球全球較好個(gè)研制最長(zhǎng)、最厚旋轉(zhuǎn)靶材的制造商,隨著研發(fā)的持續(xù)投入,國(guó)內(nèi)靶材行業(yè)的未來值得期待。 磁控濺射是一種物理氣相沉積的。濺射法可被用于制備金屬、半導(dǎo)體、絕緣體等多材料,具有設(shè)備簡(jiǎn)單、易于控制、鍍膜面積大和附著力強(qiáng)等優(yōu)點(diǎn)。因?yàn)槭窃诘蜌鈮合逻M(jìn)行高速濺射,必須有效地提高氣體的離化率。磁控濺射通過在靶陰極表面引入磁場(chǎng),利用磁場(chǎng)對(duì)帶電粒子的約束來提高等離子體密度以增加濺射率。 平面靶材主要產(chǎn)品目錄 Planar Target List 1. 鉻靶(Cr Target) 2. 硅靶(Si Target) 3. 鈦靶(Ti Target ) 4. 石墨靶(C Target) 5. 銀靶( Ag Target) 6. 銅靶( Cu Target) 7. 鈦鋁合金靶(TiAl Alloy Target) 8. 鎳鉻合金靶(NiCr Alloy Target) 9. 氧化鈦靶(TiOx Target) 10. 鉬鈮靶 (MoNb Target) 11. 鋁釹靶 (AlNd Target) 12. 氧化鈮靶 (NbOx Target) 13. 氧化鋅鋁靶 (AZO Target) 14. 氧化鋅靶 (i-ZnO Target ) 15. 鉬靶 (Mo Target)
廣州市尤特新材料有限公司
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