尤特新材能制備比例90:10、95:5、97:3平面及旋轉ito靶材，目前，氧化物薄膜材料的主要成型方法主要有：        1. 熱等靜壓法是將粉末或預先壓成的素坯裝入包套后，再將套內(nèi)抽真空焊接密封，放入高壓容器內(nèi)，使粉末在高溫及等方壓力下燒結，成型和燒結同時進行 。在ITO靶材的發(fā)展中，早期采用的熱等靜壓技術難以獲得高密度、大尺寸的材料。隨著常壓燒結方法的出現(xiàn)，熱等靜壓法制備的靶材尺寸偏小、密度偏低、失氧率高且該方法設備偏貴、成本偏高的缺點，使熱等靜壓法在ITO陶瓷靶材的制備上不再具備競爭優(yōu)勢，后續(xù)的研究和產(chǎn)業(yè)化逐漸被產(chǎn)業(yè)界淡化，但還是比較適合需要缺氧的陶瓷靶材 。       2. 冷等靜壓法是將預先成型的素坯放入橡膠包套內(nèi)浸于高壓液體下使之承受各向同性的壓力，實現(xiàn)素坯密度的強化。冷等靜壓只是獲得密度盡可能高的素坯，使素坯的燒結致密化更為容易。由于冷等靜壓不具有熱等靜壓的燒結能力，需要獨立的燒結工藝對素坯進行燒制。冷等靜壓能生產(chǎn)大尺寸的靶材，是目前多數(shù)企業(yè)優(yōu)先選擇的成型方法。國內(nèi)外的成型研究表明，冷等靜壓法可以制備出滿足陶瓷靶材所需的高品質(zhì)素坯。但冷等靜壓成型超大尺寸的素坯時，由于受到腔室尺寸的限制，會導致設備投資非常昂貴，而且在素坯較薄、尺寸較大時存在變形問題。同時，壓制不同尺寸的素坯時，需要制備不同規(guī)格的預壓模具，模具成本較高。       3. 在金屬表面涂覆陶瓷層的常用制備方法有：噴涂法、氣相沉積法、高溫點熱源掃描技術等。噴涂技術主要優(yōu)點：噴涂材料的成分不受限制，可根據(jù)要求選擇，也可以形成復合涂層。基體溫度低，工件溫度可控。被噴涂的構件尺寸不受限制，涂層厚度范圍寬，噴涂設備簡單，可直接把設備搬至現(xiàn)場進行噴涂。操作工序少，效率高，涂層形成速度快等優(yōu)點。 熱噴涂也有缺點：噴涂作業(yè)環(huán)境差、粉塵嚴重、噴涂材料利用率低、熱效率低、難以制備厚度較大的覆層材料等。隨著技術的革新，冷噴涂技術出現(xiàn)，進一步優(yōu)化了噴涂的技術。冷噴涂制備的陶瓷涂層和金屬涂層，致密性比熱噴涂更高，而含氧量則更低。      4. 陶瓷涂層已成功應用于航空、航天、國防、化工、機械、電力、電子等行業(yè)。金屬表面陶瓷涂層能改變金屬基體表面的形貌、結構與化學組成，并賦予基體新的性能。在廣州，已經(jīng)有企業(yè)同時擁有熱噴涂和冷噴涂的加工能力。冷噴涂制備的陶瓷涂層和金屬涂層，致密性比熱噴涂更高，而含氧量則更低。