尤特新材能制備比例90:10、95:5、97:3平面及旋轉(zhuǎn)ito靶材，目前，氧化物薄膜材料的主要成型方法主要有：        1. 熱等靜壓法是將粉末或預(yù)先壓成的素坯裝入包套后，再將套內(nèi)抽真空焊接密封，放入高壓容器內(nèi)，使粉末在高溫及等方壓力下燒結(jié)，成型和燒結(jié)同時(shí)進(jìn)行 。在ITO靶材的發(fā)展中，早期采用的熱等靜壓技術(shù)難以獲得高密度、大尺寸的材料。隨著常壓燒結(jié)方法的出現(xiàn)，熱等靜壓法制備的靶材尺寸偏小、密度偏低、失氧率高且該方法設(shè)備偏貴、成本偏高的缺點(diǎn)，使熱等靜壓法在ITO陶瓷靶材的制備上不再具備競(jìng)爭(zhēng)優(yōu)勢(shì)，后續(xù)的研究和產(chǎn)業(yè)化逐漸被產(chǎn)業(yè)界淡化，但還是比較適合需要缺氧的陶瓷靶材 。       2. 冷等靜壓法是將預(yù)先成型的素坯放入橡膠包套內(nèi)浸于高壓液體下使之承受各向同性的壓力，實(shí)現(xiàn)素坯密度的強(qiáng)化。冷等靜壓只是獲得密度盡可能高的素坯，使素坯的燒結(jié)致密化更為容易。由于冷等靜壓不具有熱等靜壓的燒結(jié)能力，需要獨(dú)立的燒結(jié)工藝對(duì)素坯進(jìn)行燒制。冷等靜壓能生產(chǎn)大尺寸的靶材，是目前多數(shù)企業(yè)優(yōu)先選擇的成型方法。國(guó)內(nèi)外的成型研究表明，冷等靜壓法可以制備出滿足陶瓷靶材所需的高品質(zhì)素坯。但冷等靜壓成型超大尺寸的素坯時(shí)，由于受到腔室尺寸的限制，會(huì)導(dǎo)致設(shè)備投資非常昂貴，而且在素坯較薄、尺寸較大時(shí)存在變形問(wèn)題。同時(shí)，壓制不同尺寸的素坯時(shí)，需要制備不同規(guī)格的預(yù)壓模具，模具成本較高。       3. 在金屬表面涂覆陶瓷層的常用制備方法有：噴涂法、氣相沉積法、高溫點(diǎn)熱源掃描技術(shù)等。噴涂技術(shù)主要優(yōu)點(diǎn)：噴涂材料的成分不受限制，可根據(jù)要求選擇，也可以形成復(fù)合涂層?；w溫度低，工件溫度可控。被噴涂的構(gòu)件尺寸不受限制，涂層厚度范圍寬，噴涂設(shè)備簡(jiǎn)單，可直接把設(shè)備搬至現(xiàn)場(chǎng)進(jìn)行噴涂。操作工序少，效率高，涂層形成速度快等優(yōu)點(diǎn)。 熱噴涂也有缺點(diǎn)：噴涂作業(yè)環(huán)境差、粉塵嚴(yán)重、噴涂材料利用率低、熱效率低、難以制備厚度較大的覆層材料等。隨著技術(shù)的革新，冷噴涂技術(shù)出現(xiàn)，進(jìn)一步優(yōu)化了噴涂的技術(shù)。冷噴涂制備的陶瓷涂層和金屬涂層，致密性比熱噴涂更高，而含氧量則更低。      4. 陶瓷涂層已成功應(yīng)用于航空、航天、國(guó)防、化工、機(jī)械、電力、電子等行業(yè)。金屬表面陶瓷涂層能改變金屬基體表面的形貌、結(jié)構(gòu)與化學(xué)組成，并賦予基體新的性能。在廣州，已經(jīng)有企業(yè)同時(shí)擁有熱噴涂和冷噴涂的加工能力。冷噴涂制備的陶瓷涂層和金屬涂層，致密性比熱噴涂更高，而含氧量則更低。