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供應ITO鍍膜生產線

產品信息

產品詳細

預真空室具有雙層基片承載盤升降機,使得裝卸基片和濺射工藝同時進行,從而實現(xiàn) “in-line”連續(xù)在線工作方式。由上至下濺射方式,12”x12”尺寸的基片承載盤,可放置不同尺寸及形狀的基片?;休d盤單次/多次掃描沉積方式,準確地控制沉積膜的厚度,不需要膜厚檢測器,避免了因膜厚檢測器的測量誤差以及傳感器的消耗,節(jié)省了運行成本。生產量:9個4” 基片/次,6個6” 基片/次,1個12” 基片/次。 3靶位/4靶位結構的工藝室,射頻/直流開關切換網絡,可實現(xiàn)射頻磁控濺射、直流磁控濺射、射頻二極管濺射和反應濺射。長方形平板式磁控陰極, 尺寸可為5”x15” 、5”x17” 和 3”x17”特殊設計的各種嵌入式磁控陰極,實現(xiàn)高膜厚均勻性和高靶材有效使用率;特別是貴重金屬(鉑,金)的沉積,可達到60%的靶材有效使用率。基片預加熱功能和預清洗功能,以及可移動擋板,從而實現(xiàn)高質量的沉積膜。CTI 冷凝泵組,確保工藝室真空,以得到高質量的沉積膜。行星承載盤,使得基片具有自傳和公轉的功能,以提高濺射膜厚均勻性

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