科研實驗專用氧化鎳靶材NiO磁控濺射靶材電子束鍍膜蒸發(fā)料 產(chǎn)品介紹       氧化鎳（NiO）為綠色粉末狀固體，熔點：1980±20℃，密度：6.67g/cm³，不溶于水，不溶于堿液，為堿性氧化物，溶于酸和氨水。用作搪瓷的密著劑和著色劑，陶瓷和玻璃的顏料。在磁性材料生產(chǎn)中用于生產(chǎn)鎳鋅鐵氧體等，以及用作制造鎳鹽原料、鎳催化劑并在冶金、顯像管中應用。用作電子元件材料、催化劑、搪瓷涂料和蓄電池材料。 產(chǎn)品參數(shù) 中文名 氧化亞鎳            化學式 NiO 分子量 74.71               熔點 1984℃ 密度 6.67g/cm 支持靶材定制，請?zhí)峁┌胁漠a(chǎn)品的元素、比例（重量比或原子比）、規(guī)格，我們會盡快為您報價??！  服務項目：靶材成份比例、規(guī)格、純度均可按需定制。科研單位貨到付款，質(zhì)量保證，售后無憂！ 產(chǎn)品附件：發(fā)貨時產(chǎn)品附帶裝箱單/質(zhì)檢單/產(chǎn)品為真空包裝 適用儀器：多種型號磁控濺射、熱蒸發(fā)、電子束蒸發(fā)設備  質(zhì)量控制：嚴格控制生產(chǎn)工藝，采用輝光放電質(zhì)譜法GDMS或ICP光譜法等多種檢測手段，分析雜質(zhì)元素含量保證材料的高純度與細小晶粒度；可提供質(zhì)檢報告。  加工流程：熔煉→提純→鍛造→機加工→檢測→包裝出庫        陶瓷化合物靶材本身質(zhì)脆且導熱性差，連續(xù)長時間濺射易發(fā)生靶裂情況，綁定背靶后，可提高化合物靶材的導熱性能，提高靶材的使用壽命。我們強烈建議您，選購陶瓷化合物靶材一定要綁定銅背靶！        我公司采用高純銦作為焊料，銦焊厚度約為0.2mm，高純無氧銅作為背靶。        注意：高純銦的熔點約為156℃，靶材工作溫度超過熔點會導致銦熔化！綁定背靶不影響靶材的正常使用！        建議：陶瓷脆性靶材、燒結靶材，高功率下濺射易碎，建議濺射功率不超過3W/cm2。