QZD系列多弧離子鍍膜機(jī)，運(yùn)用等離子體真空鍍膜原理，將電弧鍍技術(shù)與磁控離子鍍技術(shù)融合為一體，不僅能明顯地改進(jìn)了膜層質(zhì)量，而且還擴(kuò)大了薄膜的應(yīng)用范圍。其優(yōu)點(diǎn)是薄膜附著力強(qiáng)，繞射性好，膜材廣泛等。本系列設(shè)備主要用于金屬零件、五金件、陶瓷等表面鍍制一層或多層的金屬膜．例如TlN膜和仿金膜、摻金膜、槍黑膜等高擋裝飾膜。主要性能特點(diǎn)：  鍍膜室采用箱式前開(kāi)門優(yōu)質(zhì)不銹鋼制造，工件裝夾方便；  鍍膜室規(guī)格及工件軸尺寸通用性廣，可適應(yīng)不同形狀及規(guī)格的工件；  配置性能先進(jìn)、可靠的逆變電弧源及中頻或直流電源；  增加配置圓柱型或平面型磁控濺射靶，鍍膜應(yīng)用范圍更廣；  配有燈絲加熱及增強(qiáng)離化裝置，提高膜層質(zhì)量；  采用可編程控制器(PLC)，觸摸屏（HMI）人機(jī)控制界面，操作簡(jiǎn)單易用，手動(dòng)/自動(dòng)控制自    由切換； 采用偏壓電源，提高了膜層的硬度及膜基的結(jié)合力；