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大平面陰較濺射靶

產(chǎn)品信息

產(chǎn)品詳細(xì)

大平面濺射陰極 特點: 1、 采用獨特的磁路設(shè)計,突破傳統(tǒng)模式,更符合磁控濺射的理念。 2、 采用獨特的結(jié)構(gòu)設(shè)計,可以內(nèi)置、外置,更符合使用要求。 3、磁鐵不被冷卻水包圍,減少腐蝕,且保證磁力線的有效曲線分布。 4、獨特的布?xì)夥绞?,更加保膜層濺射的均勻性,其等離子狀態(tài)更加平衡。 5、 更高的濺射率,離子密度更強。 6、 更高的利用率,高達(dá)40%以上。 7、 尺寸范圍:可在300-3000mm區(qū)間,保持一致的均勻性 8、使用范圍:如TI、AL、NI、CR、AZO、ITO等 應(yīng)用領(lǐng)域: 半導(dǎo)體、MEMS、TFT、ITO、low-e玻璃、硬質(zhì)涂層、裝飾性膜層

聯(lián)系方式

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