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供應(yīng)大面積AZO透明導(dǎo)電膜磁控濺射鍍膜生產(chǎn)線

產(chǎn)品信息

產(chǎn)品詳細(xì)

<div class="ncpzs_title"><a name="cpxh"></a>產(chǎn)品型號</div> <div style="margin-top: 20px; float: left; width: 100%;"> <p><strong><span style="FONT-SIZE: x-small"><span style="FONT-FAMILY: Arial">HD-JCL-Z1400A</span></span></strong></p> </div> <div class="ncpzs_title"><a name="cpjs"></a>產(chǎn)品介紹</div> <div style="margin-top: 20px; float: left; width: 100%;"> <p>AZO膜生產(chǎn)線共設(shè)計(jì)有七個(gè)真空腔體部分,靠前部分為進(jìn)口室,第二部分為進(jìn)口緩沖室,第三部分為進(jìn)口傳送室,第四部分為工藝室,第五部分為出口傳送室,第六部分為出口緩沖室,第七部分為出口室;兩對采用PCU04閉路環(huán)控制的中頻孿生Si靶,形成高質(zhì)量的隔離SiO2層;十對圓柱AZO靶,實(shí)現(xiàn)高質(zhì)量的AZO透明導(dǎo)線膜;設(shè)備設(shè)計(jì)加工尺寸為寬1100mm,長1400mm的平面基板材料,生產(chǎn)加工周期可優(yōu)化到100-180秒;生產(chǎn)線采用分子泵抽氣形成氣氛隔離的先進(jìn)設(shè)計(jì),生產(chǎn)線采用渦輪浮分子泵以獲得的隔離、穩(wěn)定的抽速和均勻的氣體分布。</p> </div> <div class="ncpzs_title"><a name="sctd"></a>生產(chǎn)線技術(shù)特點(diǎn)</div> <div style="margin-top: 20px; float: left; width: 100%;"> <p>(1)設(shè)備類型:臥式連續(xù)磁控濺射鍍膜線<br />(2)鍍膜基片架尺寸:按照1×1100mm(W)× 1400mm(L)×3mm基片設(shè)計(jì);<br />(4)膜層均勻性設(shè)計(jì)要求:在有效沉積區(qū)域內(nèi),膜層厚度均勻性≤±5%;<br />(6)陰極結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì)要求:采用中頻孿生旋轉(zhuǎn)陰極,初步確定靶規(guī)格為135mm×1400mm;<br />(7)設(shè)備傳動(dòng)方式:采用雙摩擦傳動(dòng)的臥式小車裝載進(jìn)片方式(不采用滾輪設(shè)計(jì));<br />(8)鍍膜工藝實(shí)現(xiàn)方式:采用ZnO:Al陶瓷靶,采用反應(yīng)濺射沉積工藝;<br />(9)鍍膜溫度控制:采用不銹鋼鎧裝加熱裝置(可以按客戶要求采用燈管加熱),較高溫度為350℃,按照常溫~400℃可以任意設(shè)定設(shè)計(jì),控制穩(wěn)定度為±5℃;<br />(10)控制系統(tǒng)要求:控制系統(tǒng)能實(shí)現(xiàn)人、機(jī)對話,及時(shí)對生產(chǎn)過程進(jìn)行必要干預(yù)。運(yùn)行過程有報(bào)警提示和故障顯示,故障顯示能提示操作人員正確的操作和排故。</p> </div> <div class="ncpzs_title"><a name="jscs"></a>技術(shù)參數(shù)</div> <div style="margin-top: 20px; float: left; width: 100%;"> <p>1)極限真空壓力:6× 1 0E-4 Pa<br />2)平均生產(chǎn)周期:80-180 秒/架<br />3)基片架尺寸:1100 mm× 1400mm(可以根據(jù)要求定做)<br />4)膜層均勻性:±5%</p> </div> <div class="ncpzs_title"><a name="cgal"></a>成功案例</div> <div style="margin-top: 20px; float: left; width: 100%;"> <p>中國建筑材料集團(tuán)</p> </div>

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