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什么叫做OLED蒸鍍工藝中的TS和SD?

2019-11-28 來(lái)源:OLEDindustry

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中玻網(wǎng)】OLED顯示技術(shù)作為一種主動(dòng)式發(fā)光技術(shù),經(jīng)過(guò)十多年的發(fā)展后終于在小尺寸手機(jī)和大尺寸電視市場(chǎng)取得了一定的打破,并以其上好的色彩、對(duì)比和未來(lái)在柔性上的前景,越來(lái)越受到消費(fèi)者的喜愛(ài)。但說(shuō)到OLED,就不得不提到OLED工藝技術(shù)之痛(瓶頸技術(shù))—蒸鍍。

  由于OLED器件中農(nóng)業(yè)生產(chǎn)體系薄膜的總膜厚為100~200nm,而且是農(nóng)業(yè)生產(chǎn)體系材料,在CVD、蒸鍍、涂布、印刷等成膜技術(shù)中,目前量產(chǎn)性較好的就是蒸鍍技術(shù)了(尤其對(duì)小分子OLED材料來(lái)說(shuō))。

  如圖1所示,是OLED蒸鍍的概念圖。較上面是玻璃基板,再由殷鋼(Invar Steel,即鐵鎳合金)制成的FMM(Fine Metal Mask,即高精細(xì)掩模版)蓋住玻璃,然后一起通過(guò)磁鐵吸附在上基臺(tái)上。蒸鍍?cè)磧?nèi)放置農(nóng)業(yè)生產(chǎn)體系材料,通過(guò)電阻絲加熱或電子束加熱的方式使材料蒸發(fā),再通過(guò)FMM進(jìn)人到規(guī)定的像素開(kāi)口區(qū)。這里的TS(Target-Source Distance)就是指蒸鍍?cè)吹紽MM目標(biāo)的距離,蒸做角為。TS距離一般在400~800 mm不等。如果是同樣的點(diǎn)蒸鍍?cè)春屯瑯拥恼翦兘牵琓S距離較小時(shí),材料利用率高,PPI時(shí)較小,但成膜均一性較差,且SD(Shadow Distance,即陰影距離)非常大;而TS距離非常大時(shí):成膜均一性會(huì)變好,SD會(huì)變小,但材料利用率較低,PPI非常大。

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  如圖2所示,是FMM蒸鍍示意圖,F(xiàn)MM的實(shí)際照片如圖3所示。生產(chǎn)FMM的方式主要有三種,即蝕刻、電鑄和多重材料(金屬+樹(shù)脂材料)復(fù)合。SD在這里指的就是的和,它會(huì)影響PPI,因此越小越好,否則會(huì)發(fā)生R串色到B的問(wèn)題。關(guān)于圖2的詳細(xì)說(shuō)明,請(qǐng)參考以下兩點(diǎn):

 ?。?)是蒸鍍氣體與垂直法線的非常大夾角,是FMM二次刻蝕與法線的夾角,是FMM一次刻蝕與法線的夾角,a是FMM和基板間距,b是FMM二次刻蝕高層度,c是FMM一次刻蝕高層度,d是FMM孔較窄處寬,e是子像素間距,f是FMM二次刻蝕的基準(zhǔn)面延伸長(zhǎng)度,g是FMM和基板間基準(zhǔn)面延伸長(zhǎng)度,h是子像素下底間間距。

 ?。?)一般希望,,的值都小一點(diǎn),這樣孔就是垂直的;同時(shí),在a,b,c的值一定的情況下,f和g的值可以比較??;如果h的值也比較小的話,PPI可以做高。

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