磁控濺射靶材廣泛應(yīng)用于用于建筑/汽車玻璃工業(yè)、薄膜太陽能工業(yè)、平面顯示工業(yè)、裝飾/功能鍍膜工業(yè)。隨著國內(nèi)靶材行業(yè)研發(fā)的投入和發(fā)展，國內(nèi)已有靶材供應(yīng)商、制造商的生產(chǎn)出來的靶材達(dá)到了***的水平。在廣州，尤特新材料成為大部分國家大部分國家較好個(gè)研制較長、較厚旋轉(zhuǎn)靶材的制造商，隨著研發(fā)的持續(xù)投入，國內(nèi)靶材行業(yè)的未來值得期待。磁控濺射是一種物理氣相沉積的。濺射法可被用于制備金屬、半導(dǎo)體、絕緣體等多材料，具有設(shè)備簡單、易于控制、鍍膜面積大和附著力強(qiáng)等優(yōu)點(diǎn)。因?yàn)槭窃诘蜌鈮合逻M(jìn)行高速濺射，必須有效地提高氣體的離化率。磁控濺射通過在靶陰極表面引入磁場，利用磁場對帶電粒子的約束來提高等離子體密度以增加濺射率。       AluminumZincOde)等，純度要求一般在99.99%以上，其中，鋁靶、銅靶用于導(dǎo)電層薄膜。2017年公司濺射靶材、蒸鍍材料、其他產(chǎn)品的營收占比分別為78.36%、18.4%、3.24%。公司營業(yè)收入逐年增長，毛利率和凈利率保持高位，盈利能力穩(wěn)健提升。年，公司營業(yè)收入分別為0.83億元、1.24億元、1.75億元、2.36億元，年均復(fù)合增長率為41.86%。2017年1-9月，毛利率均超過35%，凈利率20%左右，較高的毛利率凈利率體現(xiàn)了公司產(chǎn)品的技術(shù)含量的市場競爭力，同時(shí)表明了公司產(chǎn)品具有較強(qiáng)的盈利能力，有利于公司未來的可持續(xù)發(fā)展。特別是ITO靶材市場發(fā)展緩慢，致使中國銦大量出口。       純度大于5N，且致密度大于99％。按使用的原材料材質(zhì)不同，濺射靶材可分為金屬/非金屬單質(zhì)靶材、合金靶材、化合物靶材等。濺射鍍膜工藝可重復(fù)性好、膜厚可控制，可在大面積基板材料上獲得厚度均勻的薄膜，所制備的薄膜具有純度高、致密性好、與基板材料的結(jié)合力強(qiáng)等優(yōu)點(diǎn)，已成為制備薄膜材料的主要技術(shù)之一，各種類型的濺射薄膜材料已得到廣泛的應(yīng)用，因此，對濺射靶材這一具有高附加值的功能材料需求逐年增加，濺射靶材亦已成為目前市場應(yīng)用量大的PVD鍍膜材料。從市場前景來看，薄膜太陽能電池在光伏建筑一體化、大規(guī)模低成本發(fā)電站建設(shè)等方面比傳統(tǒng)的晶體硅太陽能電池具有更加廣闊的市場空間。現(xiàn)今制備太陽能電池用的濺射靶材包括鋁靶、銅靶、鉬靶、鉻靶以及ITO靶、AZO靶(氧化鋁鋅。       硅的原子結(jié)構(gòu)決定了硅原子具有一定的導(dǎo)電性，但由于硅晶體中沒有明顯的自由電子，因此導(dǎo)電率不及金屬，且隨溫度升高而增加，因而具有半導(dǎo)體性質(zhì)。微電子領(lǐng)域?qū)Π胁臑R射薄膜的品質(zhì)和電阻要求是相當(dāng)苛刻的。硅片制造商對靶材的要求是大尺寸、高純度、低偏析和細(xì)晶粒，這就要求所制造的靶材具有更好的微觀結(jié)構(gòu)。電阻率是硅靶材產(chǎn)品的重要參數(shù)之一，除特殊用途外，絕大多數(shù)硅靶材電阻率要求越低越好，開始應(yīng)用時(shí)電阻率要求在0.1-0.5Ω·cm范圍內(nèi)，逐漸降低至小于0.1Ω·cm，目前標(biāo)準(zhǔn)電阻率為0.02-0.04Ω·cm。為克服現(xiàn)有技術(shù)的不足，UVTM的研發(fā)人員開發(fā)了一種超低阻硅靶材，在硅材料中摻入處理過的高硼含量母合金，使硅靶材的電阻率小于0.01Ω·cm。       這也是其一大優(yōu)點(diǎn)。靶中毒的物理解釋，一般情況下，金屬化合物的二次電子發(fā)射系數(shù)比金屬的高，靶中毒后，靶材表面都是金屬化合物，在受到離子轟擊之后，釋放的二次電子數(shù)量增加，提高了空間的導(dǎo)通能力?；蛘哜佷X硅靶沉積的薄膜。3.4水晶鍍膜系列靶材水晶飾品，燈飾等鍍膜量這幾年增長很快，主要集中在中山古鎮(zhèn)和義烏浦江為主。古鎮(zhèn)是以燈飾水晶鍍膜為主有大小企業(yè)幾十家。浙江義烏以水晶飾品為主。大多采用匯成真空電弧加磁控鍍膜設(shè)備。主要有干邑色，琥珀色，酒紅色，AB彩，玫紅色，金顏色，墨綠色，豬肝色等。水晶鍍膜琥珀色。鉬靶材主要用于平面顯示行業(yè)，屬于鉬金屬制品生產(chǎn)鏈頂端產(chǎn)品，技術(shù)含量高、生產(chǎn)難度大。UVTM自主研發(fā)、生產(chǎn)出具有完全知識產(chǎn)權(quán)的4.5代、5.0代、5.5代靶材。產(chǎn)品規(guī)格一次一次刷新紀(jì)錄。       新型靶材以銅為主體，與ITO一樣，因此容易用蝕刻工藝實(shí)現(xiàn)細(xì)線設(shè)計(jì)，因?yàn)椴皇褂勉煹认∮薪饘伲虼伺cITO相比，還能降低觸摸屏的成本。用于大尺寸觸摸屏的金屬網(wǎng)的銅合金靶材。該材料可一次性形成導(dǎo)電膜、布線（引線）及黑化膜，同時(shí)具備不錯的導(dǎo)電性和低反射率。觸摸屏通常使用氧化銦錫（ITO）作為透明導(dǎo)電膜。ITO是一種透明的導(dǎo)電性材料，但隨著觸摸屏尺寸越來越大，要求具備更高的導(dǎo)電性。作為可滿足這一要求的技術(shù)，將導(dǎo)電線材料從ITO換為網(wǎng)眼狀金屬的“金屬網(wǎng)”被開發(fā)出來。在金屬網(wǎng)用材料方面，目前有基于蒸鍍法的銅網(wǎng)及銀納米線等產(chǎn)品，并被應(yīng)用于附帶大尺寸顯示屏的飲料自動售貨機(jī)以及大屏幕個(gè)人電腦等的觸摸屏上。新產(chǎn)品與玻璃、PET（聚酯）等多種基板材料的緊貼性也很不錯。