產(chǎn)品名稱:MSC系列磁控濺射鍍膜機 產(chǎn)品描述:MSC型磁控濺射真空鍍膜機是立式單開門非平衡磁控反應濺射鍍膜機。此設備所沉積的膜層在致密度、均勻度、純度、硬度等方面均有提高。廣泛應用于手表、眼鏡、通訊、電子、機械、裝飾和交通航空等領域的高檔裝飾和功能薄膜。 主要特點：        1、沉積速率快，溫升小，能較好抑制打火及靶中毒現(xiàn)象； 2、濺射釋放的高能量使膜層密度和附著力有顯著提高； 3、觸摸屏+PLC,可實現(xiàn)全自動控制，自動/手動隨時切換； 4、鍍膜室容積大，裝載量大，生產(chǎn)效率高。 5、工件架采用公轉(zhuǎn)結構，可設置自動正反轉(zhuǎn)，產(chǎn)品均勻**好； 6、整機配置合理，抽氣速率快，噪聲小，耗能低；   基本配置： 1、鍍膜室、閥門、管道均采用不銹鋼制造，立式、單開門結構，真空室有效直徑自Φ1000mm～Φ1800mm；； 2、真空系統(tǒng)由機械泵、旋片泵、羅茨泵和帶冷阱高真空油擴散泵或分子泵組成； 3、鍍膜系統(tǒng)采用2～8套平面靶或柱靶，配有2～8個直流電源或中頻電源； 4、輔助抽氣系統(tǒng)采用一臺低溫水汽捕集器； 5、充氣系統(tǒng)采用1～4路氣體流量計及流量控制（顯示）儀控制； 6、電控系統(tǒng)設置電路過載、斷水、斷氣聲光報警裝置； 7、控制系統(tǒng)（觸摸屏+PLC），實時顯示詳細參數(shù)，全自動控制整個生產(chǎn)過程，并自動存儲工藝參數(shù)。 8、可根據(jù)客戶要求配多套靶源。