納米二氧化硅拋光液的應(yīng)用

由于納米二氧化硅成本相對(duì)較低，且具有良好的分散性、機(jī)械磨損性，高度度、高附著力、成膜性好、高滲透、高耐候性、高耐磨性等特點(diǎn)，是一種性能優(yōu)良的CM P技術(shù)用的拋光材料.，因而常被用于金屬、藍(lán)寶石、單晶硅、微晶玻璃、光導(dǎo)攝像管等表面準(zhǔn)確拋光。

化學(xué)機(jī)械拋光（CMP）技術(shù)是目前各類(lèi)顯示屏、手機(jī)部件、藍(lán)寶石、不銹鋼、單晶硅片等領(lǐng)域使用廣泛的表面超準(zhǔn)確加工技術(shù)，研磨拋光材料是化學(xué)機(jī)械拋光過(guò)程中必不可少的一種耗材，常用的研拋材料有氧化鈰、氧化硅、氧化鋁和金剛石(鉆石)。氧化鈰主要用于玻璃晶體等拋光，金剛石與氧化鋁主要用于高硬度晶體的拋光，而納米二氧化硅拋光液主要用于許多材料表面準(zhǔn)確拋光。這幾種材料往往可以搭配使用，組成研磨-拋光的理想材料。本次介紹下納米二氧化硅拋光液（VK-SP50W）的應(yīng)用。

納米二氧化硅拋光液（VK-SP50W）應(yīng)用特性：

1、納米二氧化硅拋光液（VK-SP50W）由高純納米二氧化硅復(fù)合配置而成，通過(guò)高科技術(shù)分散成納米顆粒，高含量分散均勻的納米拋光液。

2、拋光速平坦度加工，拋光是利用SiO2等材料的均勻納米粒子，不會(huì)對(duì)加工件造成物理?yè)p傷，速率快，利用分散均勻大粒徑的膠體二氧化硅等粒子達(dá)到高速拋光的目的

3、高純度，拋光液不腐蝕設(shè)備，使用的安全性能高。