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NIDEK高精度平坦度測(cè)試儀FT-17/晶片平坦度檢測(cè)儀

產(chǎn)品信息

產(chǎn)品詳細(xì)

工廠出售一臺(tái) 8成新 2010年儀器   NIDEK平坦度測(cè)試儀FT-17 NIDEK FT-17平坦度測(cè)試儀功能簡(jiǎn)介一,F(xiàn)T-17是∮130mm以下各類晶片平坦度測(cè)試裝置,該裝置采用激光斜射干涉技術(shù)二,可設(shè)定1,2,3,4,5μm/fringe的干涉條紋。三,接入標(biāo)準(zhǔn)的解析裝置,以表示各類晶片的平面度。測(cè)定結(jié)果,可用各種測(cè)定值,等高線圖,俯視圖,斷面圖等圖表示。四,無(wú)須校準(zhǔn)五,以專項(xiàng)使用解析裝置控制程序使操作變得容易  NIDEK FT-17平坦度測(cè)試儀技術(shù)參數(shù)1,測(cè)定方法:光波干涉方法(傾斜入射)2,光源:半導(dǎo)體激光(655nm,3mw)3,樣片尺寸:∮130mm以下,但是平坦度在∮100mm以下4,樣片厚度:2000um以下(平坦度測(cè)定250um-1000um以下)但是承受臺(tái)zuida10mm、其他厚度請(qǐng)以其他方式商談5,樣片的種類:晶片(硅、化合物、酸化物、玻璃)金屬片、磁碟(鋁、玻璃)模具等 鏡面及非鏡面(除反射率低的非鏡面)6,樣片的傾斜角度:比垂直向前傾斜8度7,干涉計(jì)設(shè)定感度:1,2,3,4,5μm/線距8,測(cè)定范圍:線距感光的30倍(線距狀況、有比鏡片尺寸等30倍以下的場(chǎng)合)9,攝像光學(xué)比:3倍以上10,            電源:AC100V Nidek高準(zhǔn)確平面度檢驗(yàn)儀, 適用于透明晶體物體(如藍(lán)寶石晶片等)和LED外延晶片、芯片的檢驗(yàn)。其應(yīng)用不僅局限于對(duì)藍(lán)寶石襯底單面/雙面的表面平坦檢驗(yàn),而且更多地應(yīng)用于對(duì)外延之后,外延層表面品質(zhì)、TTV等的檢驗(yàn)和評(píng)估。在電腦顯示屏上,它可自動(dòng)生成三維立體的表面彩色效果圖,以幫助人們清楚細(xì)微地、直觀地了解和掌握對(duì)象物表面層生長(zhǎng)的情況。測(cè)試項(xiàng)目吸附:GFLR、GF3D、GF3R、TV、GBIR、TAPER、TAng、SFLR、SFLD、SFQR、SF3R、SF3D、SBIR、SBID非吸附:BOW、SORI、整體應(yīng)力、局部應(yīng)力 可測(cè)試晶片種類切割片、研磨片、拋光片、外延片、磊晶片可選配光刻區(qū)域模擬軟件、應(yīng)力分析軟件等

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