1111MicrosoftInternetExplorer402DocumentNotSpecified7.8 磅Normal0                   納米二氧化硅拋光粉  晶瑞新材料 甘先生 186 2016  2680微芯:gzjr88   我公司二氧化硅拋光是一種高純度顆粒均勻，分散性好，切削力好，鏡面效果好的拋光粉，廣泛用于多種材料納米級的高平坦化拋光， 拋光范圍：硅晶圓片、鍺片、化合物半導(dǎo)體材料，光學(xué)器件、藍(lán)寶石片等的拋光加工。金屬鏡面拋光   拋光特點(diǎn)：具有應(yīng)用領(lǐng)域廣、拋光效率高、雜質(zhì)含量低、拋光后容易清洗等特點(diǎn)。如：硅片、化合物晶體、光學(xué)器件、寶石玉器等的拋光加工。 技術(shù)指標(biāo)： 型號 外觀 粒徑 純度 應(yīng)用 VK-SP20F 白色粉末 20-30nm 99.8% 精拋 VK-SP50F 白色粉末 50nm 99.8% 精拋 VK-SP100F 白色粉末 100nm 99.8% 精拋   我公司生產(chǎn)的納米二氧化硅拋光粉具有粒徑小、分散性好，粘度低，拋光亮度高，光澤細(xì)膩，可以解決材料表面粗糙度、波紋度和表面缺陷等問題。 可以做光學(xué)玻璃拋光，玻璃水鉆拋光，寶石拋光，金屬拋光，石材拋光等精拋。也可參雜到拋光膏或拋光蠟里面當(dāng)拋光蠟主料。  用量 推薦用量為8～20％，調(diào)成漿料再進(jìn)行拋光。 儲藏：常溫密閉儲藏。 包裝：10公斤/袋. 納米二氧化硅拋光粉 ，光學(xué)玻璃拋光，玻璃水鉆拋光