一些比較關(guān)注玻璃行業(yè)的朋友可能會(huì)經(jīng)常聽(tīng)人提到鍍膜玻璃。我們經(jīng)常會(huì)接觸到各種類(lèi)型的玻璃材料，但由于許多人對(duì)玻璃行業(yè)的了解并不夠深入，因而圍繞著它產(chǎn)生了各種各樣的問(wèn)題。為了幫助大家更深一步了解什么是鍍膜玻璃，以及它的分類(lèi)與生產(chǎn)方法，解決大家的疑惑，我們編撰了這篇文章，希望能夠有所幫助。

一、鍍膜玻璃依照特性的分類(lèi)

        鍍膜玻璃是在玻璃表面涂鍍一層或多層金屬、合金或金屬化合物薄膜,以改變玻璃的光學(xué)性能,滿(mǎn)足某種特定要求.

        鍍膜玻璃按產(chǎn)品的不同特性,可分為以下幾類(lèi):熱反射玻璃、低輻射玻璃(Low-E)、導(dǎo)電膜玻璃等.

        熱反射玻璃一般是在玻璃表面鍍一層或多層諸如鉻、鈦或不銹鋼等金屬或其化合物組成的薄膜,使產(chǎn)品呈豐富的色彩,對(duì)于可見(jiàn)光有適當(dāng)?shù)耐干渎?對(duì)紅外線(xiàn)有較高的反射率,對(duì)紫外線(xiàn)有較高吸收率,因此,也稱(chēng)為陽(yáng)光控制玻璃,主要用于建筑和玻璃幕墻;

        低輻射玻璃是在玻璃表面鍍由多層銀、銅或錫等金屬或其化合物組成的薄膜系,產(chǎn)品對(duì)可見(jiàn)光有較高的透射率,對(duì)紅外線(xiàn)有很高的反射率,具有良好的隔熱性能,主要用于建筑和汽車(chē)、船舶等交通工具,由于膜層強(qiáng)度較差,一般都制成中空玻璃使用;

        導(dǎo)電膜玻璃是在玻璃表面涂敷氧化銦錫等導(dǎo)電薄膜,可用于玻璃的加熱、除霜、除霧以及用作液晶顯示屏等;

二、鍍膜玻璃生產(chǎn)方法的分類(lèi)

        鍍膜玻璃的生產(chǎn)方法很多,主要有真空磁控濺射法、真空蒸發(fā)法、化學(xué)氣相沉積法以及溶膠—凝膠法等.

        磁控濺射鍍膜玻璃利用磁控濺射技術(shù)可以設(shè)計(jì)制造多層復(fù)雜膜系,可在白色的玻璃基片上鍍出多種顏色,膜層的耐腐蝕和耐磨性能較好,是目前生產(chǎn)和使用較多的產(chǎn)品之一.

        真空蒸發(fā)鍍膜玻璃的品種和質(zhì)量與磁控濺射鍍膜玻璃相比均存在一定差距,已逐步被真空濺射法取代.

        化學(xué)氣相沉積法是在浮法玻璃生產(chǎn)線(xiàn)上通入反應(yīng)氣體在灼熱的玻璃表面分解,均勻地沉積在玻璃表面形成鍍膜玻璃.該方法的特點(diǎn)是設(shè)備投入少、易調(diào)控,產(chǎn)品成本低、化學(xué)穩(wěn)定性好,可進(jìn)行熱加工,是目前更有發(fā)展前途的生產(chǎn)方法之一.

        溶膠—凝膠法生產(chǎn)鍍膜玻璃工藝簡(jiǎn)單,穩(wěn)定性也好,不足之處是產(chǎn)品光透射比太高,裝飾性較差.

相關(guān)概念

玻璃

        玻璃是非晶無(wú)機(jī)非金屬材料，一般是用多種無(wú)機(jī)礦物(如石英砂、硼砂、硼酸、重晶石、碳酸鋇、石灰石、長(zhǎng)石、純堿等)為主要原料，另外加入少量輔助原料制成的。它的主要成分為二氧化硅和其他氧化物。普通玻璃的化學(xué)組成是Na2SiO3、CaSiO3、SiO2或Na2O·CaO·6SiO2等，主要成分是硅酸鹽復(fù)鹽，是一種無(wú)規(guī)則結(jié)構(gòu)的非晶態(tài)固體。廣泛應(yīng)用于建筑物，用來(lái)隔風(fēng)透光，屬于混合物。另有混入了某些金屬的氧化物或者鹽類(lèi)而顯現(xiàn)出顏色的有色玻璃，和通過(guò)物理或者化學(xué)的方法制得的鋼化玻璃等。

鍍膜

        鍍膜是在表面鍍上非常薄的透明薄膜。當(dāng)光線(xiàn)進(jìn)入不同傳遞物質(zhì)時(shí)（如由空氣進(jìn)入玻璃），大約有5%會(huì)被反射掉，在光學(xué)瞄準(zhǔn)鏡中有許多透鏡和折射鏡，整個(gè)加起來(lái)可以讓入射光線(xiàn)損失達(dá)30%至40%。現(xiàn)代光學(xué)透鏡通常都鍍有單層或多層氟化鎂的增透膜，單層增透膜可使反射減少至1.5%，多層增透膜則可讓反射降低至0.25%，所以整個(gè)瞄準(zhǔn)鏡如果加以適當(dāng)鍍膜，光線(xiàn)透穿率可達(dá)95%。鍍了單層增透膜的鏡片通常是藍(lán)紫色或是紅色，鍍多層增透膜的鏡片則呈淡綠色或暗紫色。

磁控濺射

        磁控濺射（英語(yǔ)：magnetron sputtering）是在濺射的基礎(chǔ)上，運(yùn)用靶板材料自身的電場(chǎng)與磁場(chǎng)的相互電磁交互作用，在靶板附近添加磁場(chǎng)，使得二次電子電離出更多的氬離子，增加濺射效率。磁控濺射分為平衡式與不平衡式。這種技術(shù)應(yīng)用于材料鍍膜。其中高功率脈沖磁控濺射（high-power impulse magnetron sputtering (HiPIMS)或high-power pulsed magnetron sputtering (HPPMS)）近來(lái)使用較為普遍。

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