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玻璃絲印需要哪些設(shè)備 蒙砂玻璃加工工藝

2018-11-06 來源:中國玻璃網(wǎng)

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        玻璃是我們?nèi)粘I钪薪?jīng)常接觸和使用的物品,從玻璃杯這類生活用品到玻璃幕墻一類的建筑裝飾材料,玻璃為世界文明的發(fā)展做出了較大的貢獻(xiàn)。例如我們常常聽說的玻璃絲印加工市場,常用于制造玻璃絲印加工市場,性能出眾。接下來我們將簡單介紹玻璃絲印加工設(shè)備,說明蒙砂玻璃制作工藝。

一、玻璃絲印需要哪些設(shè)備


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        1、油墨:油墨是絲印必須用到的,沒有油墨哪里來的圖案。油墨分很多顏色,調(diào)油墨是絲印師傅必須學(xué)會(huì)的。

        2、網(wǎng)板:網(wǎng)板是為玻璃印上圖案準(zhǔn)備的。網(wǎng)板上首先抹上感光膠,再結(jié)合菲林、強(qiáng)燈光把圖案做到網(wǎng)板上來。把菲林放在網(wǎng)板下面,再用強(qiáng)光曝曬網(wǎng)板上的感光膠、做完后再?zèng)_洗掉菲林擋住部分的感光膠,圖案就做出來了。

        3、烤箱:烤箱讓我們想到了烘烤,沒錯(cuò),就是把玻璃放到烤箱里去烘烤,玻璃印上圖案之后,上面的油墨沒有很快的干掉,如果這個(gè)時(shí)候去拿玻璃會(huì)碰到油墨,這樣會(huì)破壞圖案。經(jīng)過烤箱之后,油墨便會(huì)干掉,圖案也不會(huì)輕易的抹掉。

        4、鋼化爐:為什么要經(jīng)過鋼化爐?絲印有分高溫絲印油墨和低溫絲印油墨,高溫絲印油墨就必須要先絲印后再經(jīng)過鋼化爐。這樣油墨與玻璃表面結(jié)合在一起,這時(shí)你想擦掉油墨就不可能了。

二、蒙砂玻璃加工工藝


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        1.底稿:用電腦設(shè)計(jì)所需的花紋。小幅面可用激光打印機(jī)輸出底片,大幅面可利用電腦刻繪機(jī)刻到黑色即時(shí)貼上或用激光照排機(jī)輸出都可。

        2.制網(wǎng)版:使用網(wǎng)版請用100-180目滌綸絲網(wǎng),建議選用單絲滌綸網(wǎng)布為佳,用水性感光膠制版。

        3.印刷玻璃蝕刻油墨:印刷前需清除玻璃表面的污、濕,充分?jǐn)嚢杳缮案?,忌用鐵器,建議用“竹木”制品.印刷時(shí),需在網(wǎng)版上刮印二次,其目的是增加墨料.如手工印刷可把蝕刻油墨從一端刮到另一端,再把刮板提起放在油墨的后面,再刮向印的一端.其目的是增加印料.也就是說在玻璃表面達(dá)到理想的墨量.如果印刷在冬天時(shí)應(yīng)把蝕刻油墨加溫到百分之20-百分之40使用為佳.使用玻璃時(shí)必須選用浮法玻璃,平板玻璃不可取。因?yàn)樵摬AУ暮癖〔粍颍诓Aе谱鳠釅汉?,冷卻不均勻使玻璃的材質(zhì)結(jié)構(gòu)不勻,所以即使印后,蝕刻出的平面效果也好壞不均。

        4.沖洗:把先印好的玻璃停放三分鐘后放到水池中沖洗或用皮管接自來水沖洗即可,等玻璃上的水干后,呈現(xiàn)出一種雪花般的圖紋。這種玻璃在市場很流行,得到廣大消費(fèi)者的喜愛。利用以上工藝可制用出如茶具、工藝品、社鏡、玻璃容器等。


相關(guān)概念

玻璃

        玻璃是非晶無機(jī)非金屬材料,一般是用多種無機(jī)礦物(如石英砂、硼砂、硼酸、重晶石、碳酸鋇、石灰石、長石、純堿等)為主要原料,另外加入少量輔助原料制成的。它的主要成分為二氧化硅和其他氧化物。普通玻璃的化學(xué)組成是Na2SiO3、CaSiO3、SiO2或Na2O·CaO·6SiO2等,主要成分是硅酸鹽復(fù)鹽,是一種無規(guī)則結(jié)構(gòu)的非晶態(tài)固體。廣泛應(yīng)用于建筑物,用來隔風(fēng)透光,屬于混合物。另有混入了某些金屬的氧化物或者鹽類而顯現(xiàn)出顏色的有色玻璃,和通過物理或者化學(xué)的方法制得的鋼化玻璃等。有時(shí)把一些透明的塑料(如聚甲基丙烯酸甲酯)也稱作農(nóng)業(yè)生產(chǎn)體系玻璃。

掩模

        掩模版(mask)簡稱掩模,是光刻工藝不可缺少的部件。掩模上承載有設(shè)計(jì)圖形,光線透過它,把設(shè)計(jì)圖形透射在光刻膠上。掩模的性能直接決定了光刻工藝的質(zhì)量。在投影式光刻機(jī)中,掩模作為一個(gè)光學(xué)元件位于會(huì)聚透鏡(condenser lens)與投影透鏡(projection lens)之間,它并不和晶圓有直接接觸。掩模上的圖形縮小4~10倍(現(xiàn)代光刻機(jī)一般都是縮小4倍)后透射在晶圓表面。為了區(qū)別接觸式曝光中使用的掩模,投影式曝光中使用的掩模又被稱為倍縮式掩模(reticle)。


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