主營(yíng):EMI鍍膜機(jī),小型試驗(yàn)蒸發(fā),CZ磁控濺射,中頻機(jī),多弧機(jī)
所在地:
廣東 東莞
產(chǎn)品價(jià)格:
電議(大量采購(gòu)價(jià)格電議)
最小起訂:
0
物流運(yùn)費(fèi):
買家承擔(dān)運(yùn)費(fèi)
發(fā)布時(shí)間:
2015-10-23
有效期至:
2015-11-23
產(chǎn)品詳細(xì)
DhZZ系列中頻加離子鍍膜機(jī) 鍍膜室尺寸Ф700×H900mmФ900×H1100mmФ1000×H1200mmФ1250×H1350mmФ1500×H1350mm 電源類型電弧電源、燈絲電源、脈沖偏壓電源、直流磁控電源、中頻磁控電源、射頻磁控電源、線性離化源 真空室結(jié)構(gòu)立式前開門結(jié)構(gòu)、后置抽氣系統(tǒng)、雙層水冷腔室 真空室材質(zhì)優(yōu)質(zhì)不銹鋼材質(zhì)腔體 極限真空8.0×10-4Pa 抽氣時(shí)間 (空載)從大氣抽至8.0×10-3Pa≤15分鐘 真空獲得系統(tǒng)擴(kuò)散泵或分子泵+羅茨泵+機(jī)械泵+維持泵(具體型號(hào)可根據(jù)客戶的要求進(jìn)行配置) 鍍膜方式電弧鍍膜+磁控濺射鍍膜 制膜顏色透光膜:煙灰色、香檳色、干邑色、酒紅色、幻彩色、琥珀色等 不透光膜:金色、古銅色、銀白色、咖啡色、槍灰色等 磁控靶類型矩形磁控靶、圓柱形磁控靶、孿生磁控對(duì)靶 磁控電源功率及磁控靶數(shù)量根據(jù)不同鍍膜工藝和客戶的需求進(jìn)行選配 電弧源4臺(tái)或6臺(tái)6臺(tái)或8臺(tái)8臺(tái)或10臺(tái)10臺(tái)或12臺(tái)10臺(tái)或12臺(tái) 偏壓電源10KW/1臺(tái)20KW/1臺(tái)20KW/1臺(tái)30KW/1臺(tái)40KW/1臺(tái) 工件轉(zhuǎn)架 轉(zhuǎn)動(dòng)方式行星式公自轉(zhuǎn)、變頻調(diào)速(可控可調(diào)) 工件烘烤溫度室溫至450℃可控可調(diào)(PID溫控) 工藝氣體3路或4路工藝氣體流量控制及顯示系統(tǒng) 選配自動(dòng)加氣系統(tǒng) 冷卻方式水循環(huán)冷卻方式,另需配冷卻水塔或工業(yè)冷水機(jī)或深冷系統(tǒng)。(客戶提供) 控制方式手動(dòng)/自動(dòng)一體化方式、觸摸屏操作、PLC或計(jì)算機(jī)控制 整機(jī)總功率40KW45KW50KW60KW75KW 報(bào)警及保護(hù)對(duì)泵和靶等缺水、過流過壓、斷路等異常情況進(jìn)行報(bào)警,并執(zhí)行相應(yīng)保護(hù)措施及電氣聯(lián)鎖功能。 設(shè)備占地面積W2m×L3mW2.5m×L3.5mW3m×L4mW4m×L5mW4.5m×L6m 其他技術(shù)參數(shù)水壓≥0.2MPa、水溫≤25℃、氣壓0.5-0.8MPa 備 注鍍膜設(shè)備的具體配置可根據(jù)客戶的鍍膜產(chǎn)品工藝要求進(jìn)行設(shè)計(jì)。
東莞市科誠(chéng)真空科技有限公司
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