熔煉合金金屬： 產(chǎn)品名稱 化學(xué)符號 純度（%） 熔點(diǎn)(℃) 密度(g/cm³) 規(guī)格形態(tài)（顆粒、塊材、絲材） 高純鋁 Al 4N6；5N 660 2.7 φ3*3mm；φ6*6mm；φ1.0mm 高純硼 B 3N 2300 2.31 ≠1-10mm 高純鉍 Bi 4N 271.4 9.79 ≠1-6mm 高純鎘 Cd 4N 321.1 8.65 ≠1-10mm 高純鈷 Co 3N5 1495 8.9 ≠1-10mm 高純鉻 Cr 3N5 1890 7.2 ≠3-5mm 高純銅 Cu 4N；5N 1083 8.92 φ3*3mm；φ6*6mm；φ1.0mm 高純鐵 Fe 3N5 1535 7.86 φ4*4mm；φ1.0mm 高純鍺 Ge 5N5 937 5.35 ≠3-6mm 高純銦 In 4N5 157 7.3 ≠3-5mm 高純鎂 Mg 3N5 651 1.74 φ4mm球形 高純錳 Mn 3N 1244 7.2 ≠1-10mm 高純鉬 Mo 3N5 2617 10.22 φ6*6mm 高純鈮 Nb 3N5 2468 8.55 φ3*3mm；φ6*6mm 高純鎳 Ni 3N8；4N5 1453 8.9 φ3*3mm；φ6*6mm 高純鉛 Pb 5N 328 11.34 ≠1-6mm 高純銻 Sb 5N 630.7 6.68 ≠1-10mm 高純鈧 Sc 3N 1814 2.98 ≠1-10mm 高純硒 Se 4N 217 4.28 ≠1-5mm 高純硅 Si 5N 1410 2.42 ≠1-5mm 高純錫 Sn 4N 232 7.75 ≠2-4mm 高純鉭 Ta 3N5 2996 16.60 φ3*3mm；φ6*6mm 高純碲 Te 4N 425 6.25 ≠1-6mm 高純鈦 Ti 2N7；5N 1675 4.5 φ3*3mm；φ6*6mm 高純釩 V 3N 1919 6.11 ≠1-10mm；5*5*5mm 高純鎢 W 3N5 3410 19.3 φ6*6mm 高純釔 Y 3N 1522 4.47 ≠1-10mm 高純鋅 Zn 4N5 419 7.14 ≠1-6mm 高純鋯 Zr 2N7 1477 6.4 φ2*3mm 高純鉿 Hf 3N5 2233 13.31 φ2*5mm 高純鑭 La 3N 921 6.17 ≠1-10mm 高純鈰 Ce 3N 799 6.7 ≠1-10mm 高純釤 Sm 3N 1072 7.54 ≠1-10mm 高純銪 Eu 3N 822 5.26 ≠1-10mm 高純釓 Gd 3N 1311 7.9 ≠1-10mm 高純鋱 Tb 3N 3230 8.22 ≠1-10mm 高純鏑 Dy 3N 1412 8.55 ≠1-10mm 高純鉺 Er 3N 1522 8.8 ≠1-10mm 高純鐿 Yb 3N 824 6.98 ≠1-10mm 高純鈥 Ho 3N 1474 8.79 ≠1-10mm 高純镥 Lu 3N 1663 9.84 ≠1-10mm 北京眾誠新材科技專業(yè)從事高純金屬材料生產(chǎn)加工，采用區(qū)域熔煉法，真空熔煉法，熱等靜壓燒結(jié)，電解精煉法提純等工藝，高純金屬純度達(dá)到99.9%-99.999%，產(chǎn)品純度高，質(zhì)量穩(wěn)定。 高純單質(zhì)金屬濺射靶材（3N-5N）：鋁靶Al、鉻靶Cr、銅靶Cu、鎳靶Ni、鋯靶Zr、鉻靶Cr、鈦靶Ti、鋁靶Al、錫靶Sn、釩靶V、銻靶Sb、銦靶、硼靶B、鎢靶W、錳靶Mn、鉍靶Bi、石墨靶C、硅靶Si、鉭靶Ta、鋅靶Zn、鎂靶Mg、鈮靶Nb、鉬靶Mo等高純單質(zhì)金屬濺射靶材。 高純陶瓷化合物濺射靶材（3N-4N）：ITO靶、AZO靶、IGZO靶、氧化鎂靶MGO、氧化釔靶Y2O3、氧化鐵靶Fe2O3、氧化鎳靶Ni2O3、氧化鉻靶Cr2O3、氧化鋅靶ZnO、硫化鋅靶ZnS、二硼化鈦靶TiB2、氧化鎂靶MgO、碳化硼靶BC、氮化硼靶BN、碳化硅靶SiC、三氧化二釔靶Y2O3、五氧化二釩靶V2O5、氧化鋅靶ZnO、硫化鋅靶ZnS、硫化鉬靶MoS、硫化鎢靶WS、氧化鋁靶Al2O3、鈦酸鍶靶SrTiO3、五氧化二鉭靶Ta2O5、五氧化二鈮靶Nb2O5等高密度陶瓷濺射靶材。 備注：眾誠新材生產(chǎn)的陶瓷靶材采用先進(jìn)的陶瓷生產(chǎn)工藝；惰性氣體保護(hù)熱等靜壓燒結(jié)技術(shù)，相對密度大于95-99％，可以提供靶材的金屬化處理及綁定服務(wù)。 多元合金靶靶材（3N-4N）：鎳釩合金靶Ni-V，鎳鉻合金靶Ni-Cr，鈦鋁合金靶Ti-Al，硅鋁合金靶Si-Al，銅銦合金靶Cu-In，銅鎵合金靶Cu-Ga，銅銦鎵合金靶Cu-In–Ga，銅銦鎵硒靶Cu-In–Ga-Se，鋅鋁合金靶Zn-Al，鎢鈦W-Ti，鐵鈷Fe-Co等高純合金濺射靶材。 備注：眾誠新材生產(chǎn)的高純合金濺射靶材：晶粒度小150-60um，相對密度高（99-99.9％），純度高（99.9-99.99％），可以提供靶材的金屬化處理及綁定服務(wù)。 高純單質(zhì)熔煉鍍膜材料（純度3N-5N，顆粒尺寸3*3mm、6*6mm、2*5mm等，絲材φ1.0mm、φ0.5mm等）：金Au、銀Ag、鉑Pt、鈀Pd、鋁Al、鉻Cr、銅Cu、鎳Ni、鋯Zr、鉻Cr、鈦Ti、鈷Co、錫Sn、釩V、銻Sb、銦In、硼B(yǎng)、鎢W、錳Mn、鉍Bi、硅Si、鉭Ta、鋅Zn、鎂Mg、鈮Nb、鉬Mo等高純單質(zhì)金屬顆粒。 陶瓷化合物蒸發(fā)顆粒（純度3N-4N，尺寸1-3mm）：一氧化硅、二氧化硅、一氧化鈦、二氧化鈦、三氧化二鈦、五氧化三鈦、二氧化鋯、二氧化鉿、二氧化鈰、三氧化鎢、五氧化二鉭、五氧化二鈮、三氧化二鈧、三氧化二鋁、三氧化二銦、氧化鐿、氧化鋅、氧化鎂、氧化鈣、氧化鉍、氧化鉻、氧化鎳、氧化銅、氧化鐵、氧化釩、氟化鎂、氟化鈣、氟化鑭、氟化鐿、氟化釔、氟化鋇、硫化物、硫化鋅、硫化鈣、硫化銻等陶瓷蒸發(fā)顆粒。