產(chǎn)品特點: 該機型是在電阻蒸發(fā)鍍膜機的基礎上，配備磁控圓柱和磁控平面靶。設備即可以鍍鋁、硬鉻等金屬膜層，也可以鍍氟化鎂等非金屬膜。配備的磁控靶，可以進行離子濺射鍍鋁、銅、不銹鋼、貴金屬等，可以準確的控制膜厚，是鍍各種塑膠、陶瓷、玻璃、手機配件等材料的優(yōu)選機器，一機多用是該機型的價值所在。   技術(shù)參數(shù): 真空室箱體：主要規(guī)格有1000*1200mm，1200*1500mm、1800*1950箱式結(jié)構(gòu)、雙開門，并可根據(jù)用戶產(chǎn)品的要求定做非標準產(chǎn)品。 夾具方式：采用公自轉(zhuǎn)行星式齒輪結(jié)構(gòu)，工件速度在15轉(zhuǎn)/分鐘可調(diào)，掛具有6軸、8軸、10軸、12軸等各種規(guī)格，適合不同大小尺寸的裝飾、工具鍍膜。 控制氣體方式：采用質(zhì)量流量計控制，進氣穩(wěn)定，反映速度快，可以配加自動壓強控制。 靶:除電阻蒸發(fā)外，另配置圓柱、平面靶，靶材根據(jù)實際要求選擇。 電源：配備直流電源，高壓轟擊電源，及蒸發(fā)大電流電源。 抽真空參數(shù)：從大氣抽至5*10??Pa≤8min 極限真空度8*10?4Pa 抽氣系統(tǒng)：主要配備蘭州擴散泵，羅次泵，旋片泵，按照真空室大小確定。 控制系統(tǒng)：可以選用手動控制；計算機控制，觸摸屏面板控制。 其他：配備電熱加熱系統(tǒng)，可以選配擴散泵自動油溫控制裝置。冷水機組等等