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高純碳靶材,高純石墨靶,石墨靶材C,石墨靶材廠家

產(chǎn)品信息

產(chǎn)品詳細(xì)

    磁控濺射靶材廣泛應(yīng)用于用于建筑/汽車玻璃工業(yè)、薄膜太陽能工業(yè)、平面顯示工業(yè)、裝飾/功能鍍膜工業(yè)。隨著國內(nèi)靶材行業(yè)研發(fā)的投入和發(fā)展,國內(nèi)已有靶材供應(yīng)商、制造商的生產(chǎn)出來的靶材達(dá)到了進(jìn)口的水平。在廣州,尤特新材料成為全球全球較好個(gè)研制最長(zhǎng)、最厚旋轉(zhuǎn)靶材的制造商,隨著研發(fā)的持續(xù)投入,國內(nèi)靶材行業(yè)的未來值得期待。     磁控濺射是一種物理氣相沉積的。濺射法可被用于制備金屬、半導(dǎo)體、絕緣體等多材料,具有設(shè)備簡(jiǎn)單、易于控制、鍍膜面積大和附著力強(qiáng)等優(yōu)點(diǎn)。因?yàn)槭窃诘蜌鈮合逻M(jìn)行高速濺射,必須有效地提高氣體的離化率。磁控濺射通過在靶陰極表面引入磁場(chǎng),利用磁場(chǎng)對(duì)帶電粒子的約束來提高等離子體密度以增加濺射率。 平面靶材主要產(chǎn)品目錄 Planar Target List 1. 鉻靶(Cr Target) 2. 硅靶(Si Target) 3. 鈦靶(Ti Target ) 4. 石墨靶(C Target) 5. 銀靶( Ag Target) 6. 銅靶( Cu Target)  7. 鈦鋁合金靶(TiAl Alloy Target)  8. 鎳鉻合金靶(NiCr Alloy Target)  9. 氧化鈦靶(TiOx Target)  10. 鉬鈮靶 (MoNb Target) 11. 鋁釹靶 (AlNd Target) 12. 氧化鈮靶 (NbOx Target) 13. 氧化鋅鋁靶 (AZO Target) 14. 氧化鋅靶 (i-ZnO Target ) 15. 鉬靶 (Mo Target) 1 靶材應(yīng)用行業(yè)分類 1.1 裝飾、工模具鍍膜行業(yè)靶材鉻靶(Cr),平面鉻靶,噴涂鉻管; 鉻硅靶90/10Wt%,50/50at%,25/75at%(電弧,平面靶,旋轉(zhuǎn)管靶); 鈦鋁靶50/50at%,70Ti/30at%,67AL/33at%(電弧,平面靶,旋轉(zhuǎn)管靶); 鈦鋁硅靶1:1:1at%,1:2:1at%(電弧,平面靶,旋轉(zhuǎn)管靶); 鈦靶,鈦管靶,鋯靶; 金靶,玫瑰金靶; 石墨靶,鎳靶,鋁靶,不銹鋼靶等。 1.2 太陽能光伏光熱行業(yè)靶材 氧化鋅鋁靶ZAO; 硅靶;鈦靶、氧化鈦靶;鋁靶;鉻靶、鎳鉻;鋅鋁、鎢、鉬 靶等。 1.3 建筑汽車玻璃大面積鍍膜 硅鋁靶、旋轉(zhuǎn)硅鋁靶;氧化鈦靶;錫靶;鉻靶;硅靶;鈦靶、不銹鋼靶。 1.4 平面顯示行業(yè) ITO 靶;二氧化硅靶;高純硅靶5-7N;高純鉻靶3N5;TFT 鉬靶;鉬鈮靶;鎢鈦 靶90/10wt%;高純鋁靶等。 1.5 光學(xué),光通信,光存儲(chǔ)行業(yè) 銀靶;鉭靶;硫化鋅靶;高純鋁靶;硅靶。 2 常用靶形 常用靶形有電弧靶、平面靶、旋轉(zhuǎn)管靶。 2.1 平面靶材利用率提高方式 (1)改變磁鐵運(yùn)動(dòng)方向 (2)改變磁力線分布寬度和高度 2.2 靶材性能與要求 靶材質(zhì)量直接影響著薄膜的物理、外觀、力學(xué)等性能,因而對(duì)靶材質(zhì)量的評(píng)判較為嚴(yán)格,主 要應(yīng)滿足以下要求:雜質(zhì)及氧含量低、純度高;致密度高;成分與組織結(jié)構(gòu)均勻;晶粒尺寸細(xì)小。 2.3 劣質(zhì)靶材缺陷 a)和b)為熔煉鉻靶燒蝕后靶面情況 c)靶面有凹痕為引弧針安裝不當(dāng)導(dǎo)致的 d)水晶鍍膜靶材密度不夠,燒蝕后區(qū)別 e)等離子噴涂氧化鈦旋轉(zhuǎn)管靶不良

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