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濺射靶材供應(yīng)商家 濺射靶材供應(yīng) 硅靶材供應(yīng)商

產(chǎn)品信息

產(chǎn)品詳細(xì)

       目前國(guó)內(nèi)氧化物薄膜材料的制備方法和技術(shù)有很多,其中主要的方法有脈沖激光沉積、磁控濺射、電子束蒸發(fā)、分子束外延等物理方法,以及化學(xué)氣相沉積、溶膠-凝膠、噴霧熱解等化學(xué)方法。在這些制備技術(shù)中,磁控濺射鍍膜技術(shù)具有易于大面積鍍膜、工業(yè)化生產(chǎn)以及薄膜品質(zhì)、成分、結(jié)構(gòu)、均勻性等易于調(diào)控的優(yōu)勢(shì),是產(chǎn)業(yè)化制備氧化物薄膜材料的重要方法之一,以該方法制備的氧化物薄膜材料在液晶面板、觸摸屏、薄膜太陽(yáng)能電池、發(fā)光二極管等產(chǎn)業(yè)上獲得了廣泛應(yīng)用。        在磁控濺射工藝中,作為被等離子體轟擊沉積薄膜用的靶材是非常關(guān)鍵的材料。制備不同的功能薄膜需要各種靶材,如金屬或合金、氧化物、碳化物靶材等。制備氧化物薄膜通常采用以氧化物陶瓷為靶材的磁控濺射工藝,與金屬靶材氧化反應(yīng)沉積法相比,具有靶材不易中毒和薄膜品質(zhì)高的優(yōu)勢(shì)。籌備均勻:靶材作為制備大面積薄膜的原材料,如果籌備結(jié)構(gòu)不均勻,則會(huì)嚴(yán)重影響到薄膜的厚度、組分等均勻性,對(duì)薄膜性能的均勻性產(chǎn)生較大的影響。如ITO、AZO或IGZO靶材,同一塊靶材或者同一批次靶材其密度均勻性越高,濺射時(shí)越不易中毒而產(chǎn)生節(jié)瘤,而且制備的薄膜厚度、方阻、透光率更均勻。高密度化:雖然提高靶材的密度增加了靶材制造的難度,但是對(duì)靶材的使用,薄膜產(chǎn)品的質(zhì)量以及綜合成本的降低有明顯的好處。高密度靶材其表面粗糙度低,有效濺射面大,濺射效率高,靶材本身表面黑化趨勢(shì)降低,并且制得的薄膜電阻率低 。同時(shí),高密度陶瓷靶材可以提高靶材的使用壽命,從而降低了靶材的使用成本。        氧化物陶瓷靶材屬于陶瓷產(chǎn)品,由于對(duì)純度、密度、尺寸、形狀,以及成分、結(jié)構(gòu)、均勻性等都有特殊要求,其制備南都較高。氧化物陶瓷靶材作為重要的關(guān)鍵基礎(chǔ)材料,多年來一直被靶材研究人員關(guān)注。與德國(guó)、日本等世界靶材強(qiáng)國(guó)相比,我國(guó)陶瓷靶材研究相對(duì)落后,但是近年來,隨著大部分國(guó)家光電產(chǎn)業(yè)的發(fā)展,國(guó)內(nèi)大型靶材公司加大投入,取得了很大的成果。陶瓷靶材結(jié)構(gòu)的發(fā)展鍍膜市場(chǎng)不僅對(duì)各種鍍膜產(chǎn)品尺寸、鍍膜品質(zhì)、生產(chǎn)效率及制造成本提出了嚴(yán)格的要求,也對(duì)陶瓷靶材的結(jié)構(gòu)提出了新的要求??v觀陶瓷靶材的研究歷程以及市場(chǎng)需求狀況,陶瓷靶材結(jié)構(gòu)的發(fā)展趨勢(shì)主要體現(xiàn)在以下幾方面。         噴涂制備靶材的工藝,和其他工藝 相比,具有不易中毒和大尺寸制備的優(yōu)勢(shì):隨著各種鍍膜產(chǎn)品尺寸的不斷擴(kuò)大化,相應(yīng)的基片尺寸也在加大,這就要求所用的陶瓷靶材必須具有較大的尺寸。以液晶面板為例,其生產(chǎn)線已經(jīng)發(fā)展到了十代線(10G),其玻璃基板的尺寸約為2880 mm×3130 mm,可以切割出8片50英寸液晶面板。雖然可以通過綁定多片小尺寸靶材獲得大面積濺射靶材,但是這不僅會(huì)增加綁定的難度,而且拼縫易造成異常放電,破壞靶材性能的均勻性,因此單片陶瓷靶材的尺寸必須大型化。平面轉(zhuǎn)管狀:多年來,鍍膜設(shè)備主要使用平面陰極,要求平面靶材與之配套。雖然人們通過設(shè)計(jì)移動(dòng)磁場(chǎng)等方式來提高平面靶材的利用率,但目前,平面靶材的利用率較高也只能達(dá)到40%左右。為了進(jìn)一步提高靶材利用率,人們?cè)O(shè)計(jì)了使用效率更高的旋轉(zhuǎn)陰極,用管狀的靶材進(jìn)行濺射鍍膜。濺射設(shè)備的改進(jìn)要求靶材從平面形狀改變?yōu)楣軤睿軤钚D(zhuǎn)靶材的利用率可以高達(dá)80%以上 。         現(xiàn)在, 廣州、深圳等地的大型靶材制造商,其制備的產(chǎn)品已得到國(guó)內(nèi)外客戶的認(rèn)可,其金屬表面噴涂陶瓷氧化物技術(shù)也逐漸成熟。未來,國(guó)內(nèi)陶瓷靶材制備將向國(guó)際靶材強(qiáng)國(guó)發(fā)起挑戰(zhàn)。異形化:為了解決平面靶材利用率低的問題,人們?cè)O(shè)計(jì)和使用異性靶材。以長(zhǎng)條形ITO、AZO平面靶材為例,增加靶材濺射跑道區(qū)域的厚度,兩端強(qiáng)磁場(chǎng)區(qū)域比中間區(qū)域更厚,讓這些先使用完畢的區(qū)域有更長(zhǎng)的使用時(shí)間,延長(zhǎng)靶材的使用壽命。平面靶材進(jìn)行異形化設(shè)計(jì)后,靶材的利用率可以從40%提高至50%以上。對(duì)高使用率的旋轉(zhuǎn)靶材來說,靶材兩端比中間區(qū)域先使用完畢,人們?cè)O(shè)計(jì)了“狗骨”形狀的旋轉(zhuǎn)靶材,讓兩端靶材更厚,以延長(zhǎng)靶材的使用壽命。

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