主營:濺射靶材,鍍膜靶材,金屬靶材,旋轉(zhuǎn)靶材,平面靶材
所在地:
廣東 廣州
產(chǎn)品價格:
電議(大量采購價格電議)
最小起訂:
1
物流運(yùn)費(fèi):
賣家承擔(dān)運(yùn)費(fèi)
發(fā)布時間:
2024-07-21
有效期至:
2025-01-21
產(chǎn)品詳細(xì)
旋轉(zhuǎn)鉻靶,國內(nèi)高純鎳鉻合金靶材的發(fā)展?fàn)顩r 目前,國內(nèi)外鎳鉻合金靶材在純度方面的差距顯著,國內(nèi)所生產(chǎn)的鎳鉻合金靶材能達(dá)到4N級,而日本相關(guān)靶材廠家制備的鎳鉻靶可以達(dá)到5N以上。超高純、高利用率與良好的濺射沉積均勻性是高質(zhì)量靶材所追求的優(yōu)良特性,因此在靶材基本制備方法的基礎(chǔ)上,需要不斷優(yōu)化工藝提高靶材質(zhì)量,具體地,從高純化、提高磁透率(PTF)以及組織結(jié)構(gòu)控制等方面提高靶材質(zhì)量,將成為鎳鉻合金靶材制備工藝的發(fā)展趨勢。 靶材的組織結(jié)構(gòu)控制也與濺射沉積均勻性有密切關(guān)系。通常濺射靶材晶粒尺寸需要控制在200μm以下,而且晶粒尺寸越細(xì)小均勻,濺射鍍膜的厚度分布越均勻,濺射速率也越快。鎳鉻硅化物作為優(yōu)良的接觸材料廣泛應(yīng)用于low-e玻璃和半導(dǎo)體制造中,鎳鉻合金濺射靶材成為保證LOW-E和半導(dǎo)體器件性能和發(fā)展半導(dǎo)體技術(shù)的關(guān)鍵材料,其不斷增長的需求量為中國貴金屬靶材制造業(yè)的發(fā)展提供了機(jī)遇和挑戰(zhàn)。 新材料靶材廠家在純度上有了新的突破,高純化、靶材組織結(jié)構(gòu)控制以及提高磁透率(PTF)將成為鎳鉻合金靶材制備工藝的發(fā)展趨勢。提高靶材純度到5N以上,晶粒大小均勻且平均晶粒尺寸控制在 200 μm 以下,是目前鎳鉻靶材工藝優(yōu)化的目標(biāo)。鎳鉻合金靶材的晶體織構(gòu)與靶材濺射性能的關(guān)聯(lián)性研究以及織構(gòu)控制等方面也將是鎳鉻合金濺射靶材新的研發(fā)趨勢。
廣州市尤特新材料有限公司
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