主營:濺射靶材,鍍膜靶材,金屬靶材,旋轉(zhuǎn)靶材,平面靶材
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陶瓷靶材在現(xiàn)有的復(fù)雜電子產(chǎn)品制造中,只不過占工程的較少部分,但起到了信息產(chǎn)業(yè)基礎(chǔ)先導(dǎo)材料的作用。我國電子信息產(chǎn)業(yè)發(fā)展很快,陶瓷濺射靶材的需求逐年增多,未來對陶瓷濺射靶材的研究和開發(fā),是我國靶材供應(yīng)商的一個重要的課題。
隨著電子產(chǎn)業(yè)的發(fā)展,高技術(shù)材料逐漸向薄膜轉(zhuǎn)移,鍍膜期間隨之發(fā)展迅速,靶材是一種具有高附加值的特種電子材料,是濺射薄膜材料的源較。陶瓷靶材作為非金屬薄膜產(chǎn)業(yè)發(fā)展的基礎(chǔ)材料,已得到從未有過的發(fā)展,靶材市場規(guī)模日益膨脹。國內(nèi)的陶瓷平面靶材主要采用燒結(jié)及綁定工藝,可生產(chǎn)非常大長度600mm,非常大寬度400mmm,非常大厚度30mm,圓角、斜邊、臺階等異形根據(jù)客戶要求加工。
陶瓷靶材的特性要求:
?。?)純度:陶瓷靶材的純度對濺射薄膜的性能影響很大,純度越高,濺射薄膜的均勻性和批量產(chǎn)品的質(zhì)量的一致性越好。幾年來,隨著微電子產(chǎn)業(yè)的發(fā)展,對成膜面積的薄膜均勻性要求十分嚴(yán)格,其純度必須大于4N。平面顯示用的ITO靶材In2O3和Sn2O3的純度都大于4N。
?。?)密度:為了減少陶瓷靶材的氣孔,提高薄膜性能,要求濺射陶瓷靶材具有高密度。靶材越密實(shí),濺射顆粒的密度月底,放電現(xiàn)場就越弱,薄膜的性能也越好。
?。?)成分與結(jié)構(gòu)均勻性:為保證濺射薄膜均勻,尤特在復(fù)雜的大面積鍍膜應(yīng)用中,必須做到靶材成分與結(jié)構(gòu)均勻性好。
濺射陶瓷靶材的制備,常用的成型方法有干壓成型、冷等靜壓成型等。冷等靜壓成型由于具有坯體密度高而且均勻,磨具制作方便,成本較低等優(yōu)點(diǎn),故而成為較常用的成型方法。陶瓷靶材的燒結(jié)常采用常壓燒結(jié)、熱壓燒結(jié)及氣氛燒結(jié)等方法。